[發明專利]定位模塊及其模內鑲件

在審

• 申請號: 201810150375.4
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN110154312A
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 希瓦;黃谷淵;彭禮賢
• 申請（專利權）人: 廣州光寶移動電子部件有限公司;光寶科技股份有限公司
• 主分類號: B29C45/14
• 分類號: B29C45/14;B29C33/12
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 聶慧荃;鄭特強

1.一種定位模塊，用于定位至少一插入件，其特征在于，包括：

一相對位于下方的下模、一相對位于上方的上模以及至少一個嵌設在所述上模內的模內鑲件；所述模內鑲件包括：

一鑲件本體；

一定位孔槽，形成于所述鑲件本體內，用于供所述插入件穿設定位；

至少一個滾件導槽，設置在所述鑲件本體且至少部分地連通于所述定位孔槽；及

至少一個滾件組，設置在相應的所述滾件導槽且能在相應的所述滾件導槽中滾動循環，且所述滾件組位于相應的所述滾件導槽與所述定位孔槽的連通處時能突伸至所述定位孔槽，借以滾動接觸所述插入件的至少一側面。

2.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件組突伸至所述定位孔槽的部分與所述插入件之間的單側間隙寬度被安排為≤0.015mm。

3.如權利要求2所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件組突伸至所述定位孔槽的部分與所述插入件之間的單側間隙寬度被安排為0.01mm。

4.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件導槽呈環狀。

5.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件導槽的數量與所述滾件組的數量分別為兩個，其中一個所述滾件導槽設置在所述鑲件本體的第一側壁，使其中一個所述滾件組相應的設置在所述鑲件本體的第一側壁的所述滾件導槽，另一個所述滾件導槽設置在與所述第一側壁相對的第二側壁，使另一個所述滾件組設置在所述鑲件本體的第二側壁的所述滾件導槽。

6.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件導槽的數量與所述滾件組的數量分別為三個，其中兩個所述滾件導槽呈左右并列的設置在所述鑲件本體的第一側壁，使其中兩個所述滾件組相應的呈左右并列的設置在所述鑲件本體的第一側壁的兩個所述滾件導槽，另一個所述滾件導槽設置在與所述第一側壁相對的第二側壁，使另一個所述滾件組設置在所述鑲件本體的第二側壁的所述滾件導槽。

7.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件導槽的數量與所述滾件組的數量分別為四個，其中兩個所述滾件導槽呈左右并列的設置在所述鑲件本體的第一側壁，使其中兩個所述滾件組相應的呈左右并列的設置在所述鑲件本體第一側壁的兩個所述滾件導槽，另兩個所述滾件導槽呈左右并列的設置在與所述第一側壁相對的第二側壁，使另兩個所述滾件組相應的呈左右并列的設置在所述鑲件本體第二側壁的兩個所述滾件導槽。

8.如權利要求4所述的定位模塊，其特征在于，所述滾件導槽形成有一循環路徑，所述循環路徑包含兩個相對的直線路徑，以及連接于兩個所述直線路徑的兩個相對的轉向路徑，所述直線路徑用于導引所述滾件組進行直線運動，所述轉向路徑用于導引所述滾件組進行轉向運動。

9.如權利要求8所述的定位模塊，其特征在于，所述直線路徑被安排沿所述插入件的滑入及滑出方向設置。

10.如權利要求1所述的定位模塊，其特征在于，所述下模具有一由所述下模頂部延伸至所述下模底部而連通至外界的輔助氣路，所述鑲件本體開設有與所述滾件導槽數量對應的氣路通孔，且所述氣路通孔分別連通于所述輔助氣路和相應的所述滾件導槽。

11.如權利要求10所述的定位模塊，其特征在于，所述氣路通孔被安排在當所述插入件滑入所述定位孔槽時施加有負的氣動力，且所述氣路通孔被安排在當所述插入件滑出所述定位孔槽時施加有正的氣動力。