[發(fā)明專利]長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件、其制造方法及核反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)構(gòu)件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810148840.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108863418B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 須山章子;鵜飼勝;內(nèi)橋正幸;垣內(nèi)一雄;日置秀明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝;東芝能源系統(tǒng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C04B35/80 | 分類號(hào): | C04B35/80;C04B35/565;G21D1/00;C04B35/64;C04B35/52;C04B35/628 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 纖維 增強(qiáng) 碳化硅 構(gòu)件 制造 方法 核反應(yīng)堆 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其是筒形狀的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其具有:
在碳化硅的基體中使碳化硅的長(zhǎng)纖維復(fù)合化而成的第1復(fù)合材料層;和
在碳化硅的基體中使碳的長(zhǎng)纖維復(fù)合化而成的第2復(fù)合材料層,
其中,將所述第1復(fù)合材料層與所述第2復(fù)合材料層進(jìn)行層疊,
所述長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件進(jìn)一步具有中間層,其介入于所述第1復(fù)合材料層與所述第2復(fù)合材料層之間,
所述中間層由選自碳化鈦鋁、碳化釩鋁、碳化鉻鋁、碳化鈮鋁、碳化鉭鋁、碳化鈦硅中的單一材料所形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其中,所述第1復(fù)合材料層的厚度為0.2mm~5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其中,所述第2復(fù)合材料層的厚度為0.2mm~2mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其中,所述中間層的結(jié)晶形態(tài)為六方晶。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其中,所述中間層的厚度為0.01mm~0.2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,
其具有涂覆材料層,所述涂覆材料層形成于所述第1復(fù)合材料層與所述第2復(fù)合材料層中的至少一者的表面,
所述涂覆材料層由選自碳、碳化鈦、氮化鉻、氮化鉻鋁、硅酸釔、硅酸鐿、硅酸鈧、鋯合金中的單一材料所形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件,其中,所述涂覆材料層的厚度為0.05mm~0.5mm。
8.一種長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件的制造方法,其是制造將第1復(fù)合材料層與第2復(fù)合材料層層疊而成的筒形狀的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件的制造方法,其具有:
通過(guò)在碳化硅的基體中使碳化硅的長(zhǎng)纖維復(fù)合化來(lái)形成所述第1復(fù)合材料層的工序;和
通過(guò)在碳化硅的基體中使碳的長(zhǎng)纖維復(fù)合化來(lái)形成所述第2復(fù)合材料層的工序,
其中,所述第1復(fù)合材料層的形成和所述第2復(fù)合材料層的形成采用化學(xué)氣相蒸鍍法和化學(xué)氣相滲透法中的至少一者來(lái)進(jìn)行,
所述制造方法進(jìn)一步具有形成介入于所述第1復(fù)合材料層與所述第2復(fù)合材料層之間的中間層的工序,
所述中間層由選自碳化鈦鋁、碳化釩鋁、碳化鉻鋁、碳化鈮鋁、碳化鉭鋁、碳化鈦硅中的單一材料來(lái)形成,
所述中間層的形成采用化學(xué)氣相蒸鍍法和化學(xué)氣相滲透法中的至少一者來(lái)進(jìn)行。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件的制造方法,其進(jìn)一步具有在所述第1復(fù)合材料層和所述第2復(fù)合材料層中的至少一者的表面形成涂覆材料層的工序,
所述涂覆材料層由選自碳、碳化鈦、氮化鉻、氮化鉻鋁、硅酸釔、硅酸鐿、硅酸鈧、鋯合金中的單一材料來(lái)形成,
所述涂覆材料層的形成采用化學(xué)氣相蒸鍍法和化學(xué)氣相滲透法中的至少一者來(lái)進(jìn)行。
10.一種核反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)構(gòu)件,其由權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的長(zhǎng)纖維增強(qiáng)碳化硅構(gòu)件形成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社東芝;東芝能源系統(tǒng)株式會(huì)社,未經(jīng)株式會(huì)社東芝;東芝能源系統(tǒng)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810148840.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 增強(qiáng)片及增強(qiáng)方法
- 圖像增強(qiáng)設(shè)備和圖像增強(qiáng)方法
- 圖像增強(qiáng)裝置、圖像增強(qiáng)方法
- 粉狀增強(qiáng)減水劑及摻有粉狀增強(qiáng)減水劑的增強(qiáng)水泥
- 增強(qiáng)片、增強(qiáng)構(gòu)件、增強(qiáng)套件、增強(qiáng)片的制造方法及增強(qiáng)構(gòu)件的制造方法
- 增強(qiáng)片、增強(qiáng)構(gòu)件、增強(qiáng)套件、增強(qiáng)片的制造方法及增強(qiáng)構(gòu)件的制造方法
- 使用增強(qiáng)模型的增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)
- 增強(qiáng)片及增強(qiáng)結(jié)構(gòu)體
- 圖像增強(qiáng)方法和圖像增強(qiáng)裝置
- 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)鏡片、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)眼鏡及增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)成像方法





