[發明專利]一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 201810148769.6 | 申請日： | 2018-02-13 |
| 公開（公告）號： | CN108191260B | 公開（公告）日： | 2019-12-13 |
| 發明（設計）人： | 黃麗莎;顧海波 | 申請（專利權）人： | 江蘇奧藍工程玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 44202 廣州三環專利商標代理有限公司 | 代理人： | 郝傳鑫;賈允 |
| 地址： | 226000 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 低輻射鍍膜玻璃 鋅鋁氧化物 耐高溫 玻璃基片表面 鎳鉻氧化物 摻雜 鍍膜層 可見光透過率 耐高溫性能 玻璃基片 玻璃 覆蓋 | ||
1.一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片(1)以及覆蓋于所述玻璃基片(1)表面的鍍膜層，其特征在于，所述鍍膜層按照以下順序依次鍍于所述玻璃基片(1)表面：第一TiOx層(2)，摻雜ZrB2的第一鋅鋁氧化物層(3)，第一鎳鉻氧化物層(4)，Ag層(5)，第二鎳鉻氧化物層(6)，摻雜ZrB2的第二鋅鋁氧化物層(7)，第二TiOx層(8)，所述第一鎳鉻氧化物層(4)的厚度為3-8nm。
2.根據權利要求1所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述摻雜ZrB2的第一鋅鋁氧化物層(3)與摻雜ZrB2的第二鋅鋁氧化物層(7)均采用真空磁控濺射法直接濺射摻入ZrB2的氧化鋅鋁靶材，其中ZrB2的摻入量是2.8-8.2wt％。
3.根據權利要求2所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述摻雜ZrB2的第一鋅鋁氧化物層(3)與摻雜ZrB2的第二鋅鋁氧化物層(7)均采用真空磁控濺射法直接濺射摻入ZrB2的氧化鋅鋁靶材，其中ZrB2的摻入量是3.1-6.3wt％。
4.根據權利要求3所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述摻雜ZrB2的第一鋅鋁氧化物層(3)與摻雜ZrB2的第二鋅鋁氧化物層(7)均采用真空磁控濺射法直接濺射摻入ZrB2的氧化鋅鋁靶材，其中ZrB2的摻入量是4.2-6.1wt％。
5.根據權利要求4所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一TiOx層(2)的厚度為20-30nm，所述摻雜ZrB2的第一鋅鋁氧化物層(3)的厚度為10-20nm。
6.根據權利要求5所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述Ag層(5)的厚度為2-10nm。
7.根據權利要求6所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二鎳鉻氧化物層(6)的厚度為55-60nm，所述摻雜ZrB2的第二鋅鋁氧化物層(7)的厚度為10-20nm。
8.根據權利要求5所述的一種耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二TiOx層(8)的厚度為20-30nm。
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