[發明專利]用于抗溶劑柔性基材的芳香族聚酰胺薄膜有效
| 申請號: | 201810146763.5 | 申請日: | 2012-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN108192117B | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發明(設計)人: | 孫立民;張東;F·W·哈里斯;景蛟凱 | 申請(專利權)人: | 阿克倫聚合物體系有限公司 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;C08L77/10;C08G69/32 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;唐瑞庭 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 溶劑 柔性 基材 芳香族 聚酰胺 薄膜 | ||
1.一種能夠制成透明薄膜的聚合物溶液,其中聚合物溶液包括:
A)一種芳香族共聚酰胺,其能夠熱交聯并具有通式(I)以及(V)的重復單元:
其中X表示重復結構(I)的摩爾百分比,Y表示重復結構(V)的摩爾百分比,并且其中共聚酰胺溶于極性有機溶劑中并且能夠溶液流延成Tg高于300℃的透明薄膜;Ar1選自由以下組成的組:
其中p為4,q為3,且其中R1、R2、R3、R4、R5選自:氫、鹵素、烷基、取代的烷基、氰基、烷氧基、取代的烷氧基、芳基、取代的芳基、烷基酯基、取代的烷基酯基和其組合,其中G1選自:共價鍵;CH2基團;C(CH3)2基團;C(CM3)2基團,其中M選自鹵素;CO基團;O原子;S原子;SO2基團;Si(CH3)2基團;9,9’-雙亞苯基芴基團;取代的9,9’-雙亞苯基芴基團以及OZO基團,其中Z選自芳基或取代的芳基;
并且其中至少一個重復單元(I)或至少一個重復單元(V)中的至少一個Ar1基團選自:
其中Ar2選自:
其中p為4,其中R6、R7、R8選自:氫、鹵素、烷基、取代的烷基、氰基、烷氧基、取代的烷氧基、芳基、取代的芳基、烷基酯基、取代的烷基酯基和其組合,其中G2選自:共價鍵;CH2基團;C(CH3)2基團;C(CM3)2基團,其中M選自鹵素;CO基團;O原子;S原子;SO2基團;Si(CH3)2基團;9,9’-雙亞苯基芴基團;取代的9,9’-雙亞苯基芴基團以及OZO基團,其中Z選自芳基或取代的芳基;和
其中至少一個重復單元(I)中的至少一個Ar2基團選自:
和
其中Ar3選自:
其中t為0至3,g為0至4,和s為0至4,其中R9、R10、R11選自:氫、鹵素、烷基、取代的烷基、氰基、烷氧基、取代的烷氧基、芳基、取代的芳基、烷基酯基、取代的烷基酯基和其組合,其中G3選自:共價鍵;CH2基團;C(CH3)2基團;C(CM3)2基團,其中M選自鹵素;CO基團;O原子;S原子;SO2基團;Si(CH3)2基團;9,9’-雙亞苯基芴基團;取代的9,9’-雙亞苯基芴基團以及OZO基團,其中Z選自芳基、取代的芳基;以及其中至少一個重復單元(V)中的至少一個Ar3基團選自:
和
B)選自通式結構(II)、(III)以及(IV)的多官能環氧化物:
其中x1,R12選自:
其中環狀結構選自:
其中n11,R13是烷基或者芳香族基團。
2.如權利要求1所述的能夠制成透明薄膜的聚合物溶液,其中R1、R2、R3、R4、R5選自:硫代烷基。
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