[發明專利]掩模板及其制造方法、掩模裝置、蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201810142723.3
• 申請日: 2018-02-11
• 公開（公告）號: CN108365134B
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發明（設計）人: 楊忠英;羅昶;吳建鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

一種掩模板及其制造方法、掩模裝置、蒸鍍方法，該掩模板包括條狀的第一部分和從第一部分的至少一側側向突出的至少一個第二部分，其中，第二部分的至少一板面上具有應力調整結構。

技術領域

本發明的實施例涉及一種掩模板及其制造方法、掩模裝置、蒸鍍方法。

背景技術

有機發光顯示裝置具有自發光、反應快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優點，因此成為一種重要的顯示技術。有機發光顯示裝置可以采用噴墨打印、蒸鍍等方法進行制備。蒸鍍方法具有操作簡單、膜厚容易控制以及易于實現摻雜等優點。在使用薄膜蒸鍍制備有機發光顯示裝置的過程中，為了在像素區域等特定位置蒸鍍特定的材料，需要使用掩模板。掩模板上通常包括多個掩模圖案，在蒸鍍時以掩模板的多個掩模圖案為掩模，可在蒸鍍基板上形成具有相應圖案的薄膜。

發明內容

本發明至少一個實施例提供一種掩模板，該掩模板包括條狀第一部分和從所述第一部分的至少一側側向突出的至少一個第二部分，其中，所述第二部分的至少一板面上具有應力調整結構。

例如，本發明一實施例提供的掩模板，包括多個所述第二部分，其中，多個所述第二部分分別設置在所述第一部分的兩側。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，在每個所述第二部分的至少一板面上形成有多個凹陷部分，所述多個凹陷部分構成所述應力調整結構。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，在每個所述第二部分的至少一板面上形成有多個凸出部分，所述多個凸出部分構成所述應力調整結構。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述凸出部分包括圖案化的薄膜層，所述圖案化的薄膜層層疊在所述第二部分的至少一板面上。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，構成所述薄膜層的材料的硬度大于構成所述第一部分的材料的硬度。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述第二部分的至少一板面的至少部分被離子摻雜，以構成所述應力調整結構。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述第一部分包括主體部分和位于所述主體部分兩端的夾持部分，在所述第一方向上，所述夾持部分的寬度大于所述主體部分的寬度。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述夾持部分包括在所述第一方向且彼此并列的至少第一夾持位置和第二夾持位置，所述第一夾持位置和所述第二夾持位置配置為用于夾持所述掩模板。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述夾持部分的形狀為在所述第一方向上的寬度朝著所述主體部分逐漸減小的楔形。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述應力調整結構在平行于所述掩模板的平面上的截面形狀包括鋸齒形、折線形、曲線形、圓環形、三角形、四邊環形、交叉棒狀形以及它們的任意組合。

例如，在本發明一實施例提供的掩模板中，所述第二部分的平面形狀包括圓角矩形或弧形側腰梯形。

本發明至少一個實施例提供一種掩模裝置，該掩模裝置包括本發明任一實施例的掩模板和蒸鍍框架，其中，所述蒸鍍框架用于固定所述掩模板。

例如，本發明一實施例提供的掩模裝置，還包括具有多個掩模開口的蒸鍍掩模板，其中，所述蒸鍍框架還用于固定所述蒸鍍掩模板，所述掩模板設置在所述蒸鍍框架上，且所述掩模板的所述第二部分用于對所述蒸鍍掩模板的所述多個掩模開口進行部分遮擋。

本發明至少一個實施例提供一種掩模板的制造方法，包括：形成條狀第一部分和從所述第一部分的至少一側側向突出的至少一個第二部分；對所述第二部分的至少一板面進行處理以在所述第二部分的至少一板面上形成應力調整結構。