[發(fā)明專利]一種提高太赫茲脈沖成像分辨率的方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810142529.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108344711B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊玉平;劉海玲;崔彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中央民族大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/3581 | 分類號(hào): | G01N21/3581 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩;李相雨 |
| 地址: | 100081 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 赫茲 脈沖 成像 分辨率 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種提高太赫茲脈沖成像分辨率的系統(tǒng),其特征在于,包括:太赫茲脈沖發(fā)生器、介質(zhì)微球、待測(cè)光柵、掃描平臺(tái)及計(jì)算機(jī),其中:
所述太赫茲脈沖發(fā)生器用于產(chǎn)生太赫茲波,所述太赫茲波的頻譜寬度為0.1-3.0 THz;
所述介質(zhì)微球位于所述太赫茲脈沖發(fā)生器和所述待測(cè)光柵之間,所述介質(zhì)微球與所述待測(cè)光柵之間的距離小于1mm,且所述介質(zhì)微球放置于所述太赫茲脈沖波形成的光斑聚焦點(diǎn)處,所述介質(zhì)微球的材料是聚四氟乙烯,用于在所述太赫茲波通過(guò)所述介質(zhì)微球照射到所述待測(cè)光柵上時(shí)產(chǎn)生光子納米噴射效應(yīng),從而獲得尺度小于衍射極限的聚焦光斑;
所述掃描平臺(tái)用于獲取所述太赫茲波經(jīng)過(guò)所述介質(zhì)微球照射到所述待測(cè)光柵的待掃描區(qū)域的成像點(diǎn);
所述計(jì)算機(jī)用于對(duì)所述獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,確定太赫茲脈沖成像;
其中,所述介質(zhì)微球的折射率是1.35,直徑是3 mm;
所述計(jì)算機(jī)用于對(duì)所述獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,確定太赫茲脈沖成像,具體為:
對(duì)所獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行時(shí)域信號(hào)處理,并查找時(shí)域振幅數(shù)據(jù)最大值和/或最小值的成像點(diǎn),獲得最大值和/或最小值時(shí)域模式的太赫茲脈沖成像圖;和/或,
對(duì)所獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行頻域信號(hào)處理,獲得預(yù)設(shè)頻率的頻域模式的太赫茲脈沖成像圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)的測(cè)試條件是:濕度為15%,溫度為20℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述預(yù)設(shè)頻率的取值范圍為攜帶超精細(xì)結(jié)構(gòu)信息的高頻波段。
4.一種提高太赫茲脈沖成像分辨率的方法,其特征在于,包括:
獲取太赫茲波經(jīng)過(guò)介質(zhì)微球照射到待測(cè)光柵的待掃描區(qū)域的成像點(diǎn),其中,所述太赫茲波的頻譜寬度為0.1-3.0 THz,所述介質(zhì)微球的材料是聚四氟乙烯,用于在所述太赫茲波通過(guò)所述介質(zhì)微球照射到所述待測(cè)光柵上時(shí)產(chǎn)生光子納米噴射效應(yīng),從而獲得尺度小于衍射極限的聚焦光斑;
所述介質(zhì)微球置于所述待測(cè)光柵前,所述介質(zhì)微球與所述待測(cè)光柵之間的距離小于1mm,且所述介質(zhì)微球放置于所述太赫茲脈沖波形成的光斑聚焦點(diǎn)處;
計(jì)算機(jī)對(duì)所述獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,確定太赫茲脈沖成像;
其中,所述介質(zhì)微球的折射率是1.35,直徑是3 mm;
所述計(jì)算機(jī)對(duì)所述獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,確定太赫茲脈沖成像,具體為:
對(duì)所獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行時(shí)域信號(hào)處理,并查找時(shí)域振幅數(shù)據(jù)最大值和/或最小值的成像點(diǎn),獲得最大值和/或最小值時(shí)域模式的太赫茲脈沖成像圖;和/或,
對(duì)所獲取的成像點(diǎn)進(jìn)行頻域信號(hào)處理,獲得預(yù)設(shè)頻率的頻域模式的太赫茲脈沖成像圖。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述獲取太赫茲波經(jīng)過(guò)介質(zhì)微球照射到待測(cè)光柵的待掃描區(qū)域的成像點(diǎn),具體為:
采用逐點(diǎn)掃描方式對(duì)所述太赫茲波經(jīng)過(guò)介質(zhì)微球照射到待測(cè)光柵的待掃描區(qū)域進(jìn)行掃描,獲取所述待掃描區(qū)域的成像點(diǎn)的二維坐標(biāo)數(shù)據(jù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)頻率的取值范圍為攜帶超精細(xì)結(jié)構(gòu)信息的高頻波段。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中央民族大學(xué),未經(jīng)中央民族大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810142529.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





