[發明專利]彩膜基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201810141098.0
• 申請日: 2018-02-11
• 公開（公告）號: CN108319066B
• 公開（公告）日: 2022-03-22
• 發明（設計）人: 殷瑞;方群;蘇醒;毛文龍;吳偉;董安鑫;尹海斌;李賓
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 牛南輝;李崢

1.一種彩膜基板，包括：

基板；以及

位于所述基板上的色阻和位于所述色阻之間的黑矩陣，

其中，所述色阻包括綠色色阻以及藍色色阻，所述綠色色阻的高度大于所述藍色色阻的高度；

或者，所述色阻包括紅色色阻以及藍色色阻，所述紅色色阻的高度大于所述藍色色阻的高度；

或者，所述色阻包括紅色色阻以及綠色色阻，所述紅色色阻的高度大于所述綠色色阻的高度；

其中，所述色阻的頂表面的粗糙度與所述色阻的高度成反比。

2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其中，所述色阻的最小高度大于所述黑矩陣的高度，所述色阻的頂表面的最大粗糙度小于所述黑矩陣的頂表面的粗糙度。

3.根據權利要求2所述的彩膜基板，還包括設置于所述色阻和所述黑矩陣上的平坦化層。

4.一種用于制造彩膜基板的方法，包括：

提供基板，所述基板包括色阻和位于所述色阻之間的黑矩陣；以及

對所述基板進行頂表面處理，以便所述色阻的頂表面的粗糙度與所述色阻的高度成反比，

其中，所述處理包括等離子體處理，

其中，在所述等離子體處理期間，調節入射到所述色阻的頂表面的所述等離子體的量，以便入射到所述色阻的頂表面的所述等離子體的量與所述色阻的高度成反比，

其中，通過設置在產生所述等離子體的等離子體源和所述基板之間的至少部分透射所述等離子體的掩模進行所述調節，

其中，所述掩模具有與所述色阻一一對應的多個透射區域，所述透射區域的等離子體透射率與對應色阻的高度成反比。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述色阻包括紅色色阻、綠色色阻以及藍色色阻，所述紅色色阻的高度大于所述綠色色阻的高度，所述綠色色阻的高度大于所述藍色色阻的高度，以及所述多個透射區域包括對應于所述紅色色阻的第一等離子體透射率、對應于所述綠色色阻的第二等離子體透射率以及對應于所述藍色色阻的第三等離子體透射率，其中，所述第一等離子體透射率小于所述第二等離子體透射率，以及所述第二等離子體透射率小于所述第三等離子體透射率。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述黑矩陣的高度小于所述色阻的最小高度。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述掩模還具有與所述黑矩陣對應的附加透射區域，所述附加透射區域的等離子體透射率大于所述掩模的對應于所述色阻的所述透射區域的最大等離子體透射率。

8.根據權利要求4所述的方法，其中，在所述基板上形成覆蓋所述色阻和所述黑矩陣的平坦化層。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，在所述平坦化層上形成隔墊物。

10.一種顯示裝置，包括根據權利要求1-3中任一項所述的彩膜基板。