[發明專利]一種電滲析膜的浸泡清洗裝置

在審

• 申請號: 201810140706.6
• 申請日: 2018-02-11
• 公開（公告）號: CN108246109A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 陸劍平;王建峰;任舉
• 申請（專利權）人: 江蘇遠洋藥業股份有限公司
• 主分類號: B01D65/06
• 分類號: B01D65/06
• 代理公司: 蘇州誠逸知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32313
• 代理人: 高娟

本發明公開了一種電滲析膜的浸泡清洗裝置，包括安置有待清洗電滲析膜的置膜槽，置膜槽由清洗支架承托；置膜槽中安裝有自動平滑運動的清洗毛刷；置膜槽一側的底部開設有清洗液進液口，通過聯通軟管與清洗液儲罐相通；在清洗支架的旁邊安裝有實現清洗液儲罐上下位移的升降裝置，升降裝置包括起支承作用的支撐架，在支撐架上安裝有若干枚起引導鋼絲繩運動方向的滑輪，鋼絲繩一端纏繞在固定于地面上的纏繞軸上，另一端固定在清洗液儲罐的頂端中央。本發明利用能夠清洗液自身的重力，通過聯通軟管，在清洗液儲罐做上下位移的時候，便捷的將清洗液灌入置膜槽或輸出至清洗液儲罐，定時、定量、自動的對電滲析膜進行浸泡清洗。

技術領域

本發明涉及電滲析設備技術領域，特別是涉及一種電滲析膜的浸泡清洗裝置。

背景技術

電滲析技術是一種較為成熟的膜分離技術，廣泛引用于純水生產、鍋爐水軟化處理、化工分離、物質純化、廢水處理等領域。電滲析過程中不可避免的會產生有垢物和污染物，主要有電極反應產生的污垢、極化導致膜上產生的污垢、在濃水室因過飽和形成的污垢以及液體中的游離懸浮物形成的污染物，這些污垢主要有氫氧化鈣、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鈣、木質素等，膜上形成的污垢和污染物，會引起膜電阻增大，隔離水流阻力升高，破壞膜結構，影響交換容量和脫鹽率，電耗增大，達到一定程度，裝置不能正常運行，電極反應產生的沉淀，積累到一定程度逐漸堵塞水流通到、沉積在膜上達到一定程度之后，膜電阻變大，電流偏小，從而影響脫鹽的效率，達到一定程度時電滲析裝置無法正常運行。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種電滲析膜的浸泡清洗裝置，能夠便捷的將清洗液灌入置膜槽中，對電滲析膜進行浸泡清洗。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：

提供一種電滲析膜的浸泡清洗裝置，包括安置有待清洗電滲析膜的置膜槽，所述置膜槽由清洗支架承托；所述置膜槽中安裝有自動平滑運動的清洗毛刷；所述置膜槽一側的底部開設有清洗液進液口，通過聯通軟管與清洗液儲罐相通；

在所述清洗支架的旁邊安裝有實現所述清洗液儲罐上下位移的升降裝置，所述升降裝置包括起支承作用的支撐架，在所述支撐架上安裝有若干枚起引導鋼絲繩運動方向的滑輪，所述鋼絲繩一端纏繞在固定于地面上的纏繞軸上，另一端固定在所述清洗液儲罐的頂端中央。

在本發明一個較佳實施例中，所述纏繞軸旁固定有電機，所述電機帶動所述纏繞軸的轉動。

在本發明一個較佳實施例中，在所述清洗液儲罐的上部開設有進料口。

在本發明一個較佳實施例中，在所述清洗液儲罐的底部開設有出料口。

在本發明一個較佳實施例中，所述出料口上安裝有放液閥。

在本發明一個較佳實施例中，所述清洗液儲罐在吊高時，底部的高度高于所述置膜槽的頂面；所述清洗液儲罐在放低時，頂部的高度低于所述置膜槽的地面。

在本發明一個較佳實施例中，其中采用清洗液進行浸泡清洗，所述清洗液包括下述質量百分比的成分：硝酸1~1.5%、鹽酸2~3%、乙酸1~1.5%、雙氧水1~2%，余量為水。

在本發明一個較佳實施例中，所述清洗液包括下述質量百分比的成分：硝酸1%、鹽酸2%、乙酸1%、雙氧水1%，余量為水。

本發明的有益效果是：本發明一種電滲析膜的浸泡清洗裝置及清洗液，利用能夠清洗液自身的重力，通過聯通軟管，在清洗液儲罐做上下位移的時候，便捷的將清洗液灌入置膜槽或輸出至清洗液儲罐，定時、定量、自動的對電滲析膜進行浸泡清洗；并設計了專用于電滲析膜浸泡清洗的清洗液，能夠反復使用，浸泡清洗效果，成本低，經濟價值高。

附圖說明

圖1是本發明一較佳實施例在清洗工作時的結構示意圖；