[發明專利]不銹鋼蝕刻溶液及使用其的導光板模具元件的制造方法

有效

• 申請號: 201810140344.0
• 申請日: 2018-02-11
• 公開（公告）號: CN110144589B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 戴雷雷
• 申請（專利權）人: 揚昕科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: C23F1/28
• 分類號: C23F1/28
• 代理公司: 北京永新同創知識產權代理有限公司 11376
• 代理人: 楊勝軍

本發明提供一種不銹鋼蝕刻溶液，用于對一導光板模具元件進行蝕刻。不銹鋼蝕刻溶液包括氯化鐵、鹽酸、硫脲以及氯化亞鐵。氯化鐵含量為670～700g/L。鹽酸含量為11～22g/L。硫脲含量為1～3g/L。氯化亞鐵含量為10～20g/L。本發明另外提供一種導光板模具元件的制造方法，使用上述的不銹鋼蝕刻溶液。

技術領域

本發明關于一種蝕刻溶液，特別是關于一種不銹鋼蝕刻溶液及使用其的導光板模具元件的制造方法。

背景技術

近年來由于電鑄機臺之性能發展日益精進，大尺寸高精度導光板模具之開發與量產也越來越多。由于金屬模具屬消耗品，必須在一定使用次數后進行更換，為了確保導光板量產品質，在蝕刻或電鑄制程都必須確保尺寸公差穩定性。尤其，導光板上的網點結構的均勻性會影響輝度與色差，因此，形成導光板網點結構的模具元件必須具有優良的均勻性及光滑度，否則，制造出來的導光板會產生輝度不高以及色差值大的問題。

目前常見的導光板模具元件材質為不銹鋼，主要是因為不銹鋼具較佳的剛性與強度，易于模具組裝。然而，習知的不銹鋼蝕刻溶液雖然蝕刻速度快，卻有蝕刻深度均勻性不佳的問題，尤其利用于制造導光板網點結構的模具元件時，各蝕刻點深度間會有高達±1μm的差異。

本「背景技術」段落只是用來幫助了解本發明內容，因此在「背景技術」中所公開的內容可能包含一些沒有構成本領域技術人員所知道的習知技術。此外，在「背景技術」中所公開的內容并不代表該內容或者本發明一個或多個實施例所要解決的問題，也不代表在本發明申請前已被本領域技術人員所知曉或認知。

發明內容

本發明提供一種不銹鋼蝕刻溶液，可提升蝕刻點深度的均勻性。

本發明提供一種導光板模具元件的制造方法，可提升蝕刻點深度的均勻性。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所公開的技術特征中得到進一步的了解。

為達到上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本發明一實施例所提供的不銹鋼蝕刻溶液用于對導光板模具元件進行蝕刻，不銹鋼蝕刻溶液包括氯化鐵(FeCl₃)、鹽酸(HCl)、硫脲(CH₄N₂S)以及氯化亞鐵(FeCl₂)。氯化鐵含量為670～700g/L。鹽酸含量為11～22g/L。硫脲含量為1～3g/L。氯化亞鐵含量為10～20g/L。

為達到上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本發明一實施例所提供的導光板模具元件的制造方法包括：于不銹鋼板材的表面形成圖案化光阻層，以及使用上述之不銹鋼蝕刻溶液對不銹鋼板材其中形成有圖案化光阻層的表面進行蝕刻制程。

本發明實施例的不銹鋼蝕刻溶液中，氯化鐵含量為670～700g/L，鹽酸含量為11～22g/L，硫脲含量為1～3g/L，氯化亞鐵含量為10～20g/L。由于這樣的配方，在進行蝕刻時，能提升蝕刻點深度的均勻性。本發明的導光板模具元件的制造方法因使用上述之不銹鋼蝕刻溶液，因此能提升蝕刻點深度的均勻性。

為讓本發明之上述和其他目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特舉優選實施例，并配合所附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

圖1是本發明一實施例的導光板模具元件的制造方法的流程示意圖。

具體實施方式

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考附圖之一優選實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或后等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明并非用來限制本發明。