[發明專利]投射光學系統在審
| 申請號: | 201810140335.1 | 申請日: | 2018-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN108107654A | 公開(公告)日: | 2018-06-01 |
| 發明(設計)人: | 黃林;陳程 | 申請(專利權)人: | 浙江舜宇光學有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/14 | 分類號: | G03B21/14;G02B13/00 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐;王艷春 |
| 地址: | 315400 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 投射光學系統 光軸 成像側面 凸面 像源 負光焦度 正光焦度 凹面 成像 側面 申請 | ||
1.投射光學系統,沿著光軸由像源側至成像側依序包括:第一透鏡和第二透鏡,其特征在于,
所述第一透鏡具有正光焦度,其近成像側面為凸面;
所述第二透鏡具有負光焦度,其近像源側面為凹面,近成像側面為凸面;
所述第一透鏡于所述光軸上的中心厚度CT1與所述第二透鏡于所述光軸上的中心厚度CT2滿足0.5<CT1/CT2<1。
2.根據權利要求1所述的投射光學系統,其特征在于,所述投射光學系統的像源面至所述第一透鏡的近像源側面在所述光軸上的距離TR與所述第一透鏡的近像源側面至所述第二透鏡的近成像側面在所述光軸上的距離Tr1r4滿足0.7<TR/Tr1r4<1.3。
3.根據權利要求2所述的投射光學系統,其特征在于,所述第一透鏡和所述第二透鏡在所述光軸上的間隔距離T12、所述第一透鏡于所述光軸上的中心厚度CT1以及所述第二透鏡于所述光軸上的中心厚度CT2滿足T12/(CT1+CT2)<0.5。
4.根據權利要求1所述的投射光學系統,其特征在于,所述第一透鏡的近像源側面的最大半口徑DT11與所述第二透鏡的近像源側面的最大半口徑DT21滿足0.6<DT11/DT21<1。
5.根據權利要求1所述的投射光學系統,其特征在于,所述第二透鏡的近像源側面的曲率半徑R3與所述第二透鏡的近成像側面的曲率半徑R4滿足0.3<R3/R4<0.8。
6.根據權利要求5所述的投射光學系統,其特征在于,所述第二透鏡的近像源側面和所述光軸的交點至所述第二透鏡的近像源側面的最大有效半口徑頂點之間的軸上距離SAG21與所述第二透鏡的近成像側面和所述光軸的交點至所述第二透鏡的近成像側面的最大有效半口徑頂點之間的軸上距離SAG22滿足0.5<SAG21/SAG22<1。
7.根據權利要求1所述的投射光學系統,其特征在于,所述第一透鏡的近成像側面的曲率半徑R2與所述投射光學系統的總有效焦距f滿足-0.5<R2/f<0。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的投射光學系統,其特征在于,所述投射光學系統的實際應用波長λ的最短波長比使用光源的最短波長短0nm-100nm,所述投射光學系統的實際應用波長λ的最長波長比使用光源的最長波長長0nm-100nm。
9.根據權利要求1至7中任一項所述的投射光學系統,其特征在于,所述投射光學系統的最大半視場角HFOV滿足TAN(HFOV)<0.23。
10.根據權利要求1至7中任一項所述的投射光學系統,其特征在于,所述投射光學系統的物方數值孔徑NA滿足NA≥0.18。
11.根據權利要求1至7中任一項所述的投射光學系統,其特征在于,所述投射光學系統的主光線的最大入射角度CRAmax滿足CRAmax<10°。
12.投射光學系統,沿著光軸由像源側至成像側依序包括:第一透鏡和第二透鏡,其特征在于,
所述第一透鏡具有正光焦度,其近成像側面為凸面;
所述第二透鏡具有負光焦度,其近像源側面為凹面,近成像側面為凸面;
所述第一透鏡和所述第二透鏡在所述光軸上的間隔距離T12、所述第一透鏡于所述光軸上的中心厚度CT1以及所述第二透鏡于所述光軸上的中心厚度CT2滿足T12/(CT1+CT2)<0.5。
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