[發明專利]納米壓印裝置及利用納米壓印裝置制備抗蝕性薄膜的方法有效
| 申請號: | 201810138283.4 | 申請日: | 2018-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN108284555B | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發明(設計)人: | 任磊 | 申請(專利權)人: | 鹽城保榮機械有限公司 |
| 主分類號: | B29C43/18 | 分類號: | B29C43/18;B29B9/06;B29C43/32;C08L23/08;C08L97/02;C08L1/14;C08K3/34;C08K3/32;C08J5/18;B29L7/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納米 壓印 裝置 利用 制備 抗蝕性 薄膜 方法 | ||
本發明公開了一種納米壓印裝置,包括壓印外盒和安裝于壓印外盒內部的聯動機構;所述壓印外盒包括壓印承載臺和固定于壓印承載臺表面的支撐板和側板;所述支撐板的表面固定有第一軸桿、第一卡條、第二軸桿和第二卡條;所述聯動機構包括齒輪、連接滑塊、第一連桿、第二連桿、連接條、第三連桿和壓印機構,所述齒輪與連接滑塊通過第一連桿相連,所述連接滑塊與連接條通過第二連桿相連,所述連接條與壓印機構通過第三連桿相連;本發明還公開了利用該納米壓印裝置制備抗蝕性薄膜的方法,包括熔融共混、擠壓造粒、納米壓印等步驟。本發明在薄膜原料中添加復合抗菌劑、增塑劑,采用納米壓印技術,制得的薄膜在保持強度和韌性的同時具備良好的抗蝕性。
技術領域
本發明屬于塑料薄膜制備技術領域,具體地,涉及一種納米壓印裝置及利用納米壓印裝置制備抗蝕性薄膜的方法。
背景技術
納米薄膜是指由尺寸為納米數量級一至一百納米的組元鑲嵌于基體所形成的薄膜材料,它兼具傳統復合材料和現代納米材料二者的優越性。隨著科技的發展,納米薄膜被人們廣泛的應用在各個領域。納米薄膜及制備的各種元器件得到廣泛應用,而根據實際工作的環境介質不同,例如不同氣候環境(工業、近海工業、海洋)、濕熱環境以及其它一些惡劣的環境等,因此需要提高薄膜在腐蝕環境介質中的耐腐蝕性以及長期使用的可靠性。
隨著社會的進步,對壓印技術的要求不斷提高,納米壓印模板可制造具有幾納米到幾百納米特征的結構,尤其在半導體業、生物領域、電池行業等都具有廣泛的應用。納米壓印(Nano-imprintLithography,NIL)技術突破了傳統光刻在特征尺寸減小過程中的難題,具有分辨率高、低成本、高產率的特點。自1995年提出以來,納米壓印已經演變出了多種壓印技術,廣泛應用于半導體制造、微機電系統(MicroelectromechanicalSystems,MEMS)、生物芯片、生物醫學等領域。NIL技術的基本思想是通過模版,將圖形轉移到相應的襯底上,轉移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜,通過熱壓或者輻照等方法使其結構硬化從而保留下轉移的圖形。
納米壓印技術既擁有大規模工業生產所必須的高產出率、低成本的優勢,同時具備了電子束直寫等技術才能達到的高分辨率。納米壓印制備的薄膜具備高性能,能夠廣泛應用于不同領域。
發明內容
基于上述背景技術,本發明提供一種利用納米壓印制備抗蝕性薄膜的方法及納米壓印裝置,通過在薄膜原料中添加科學配比的復合抗菌劑、增塑劑和填料,采用納米壓印技術,使制得的薄膜在保持強度和韌性的同時具備良好的抗蝕性。
本發明的目的可以通過以下技術方案實現:
一種納米壓印裝置,包括壓印外盒和安裝于壓印外盒內部的聯動機構;
所述壓印外盒包括壓印承載臺、支撐板和側板,所述支撐板和側板均豎直固定于壓印底板表面;
所述支撐板表面固定有第一軸桿、第一卡條、第二軸桿和第二卡條,所述第一軸桿安裝于后板表面;
所述聯動機構包括齒輪、連接滑塊、第一連桿第二連桿、連接條、第三連桿和壓印機構;
所述齒輪安裝于第一軸桿表面,所述齒輪表面固定有第三軸桿;
所述滑塊與第三軸桿之間通過第一連桿活動連接,所述滑塊與壓印機構之間通過第二連桿、連接條、第三連桿連接;
所述連接滑塊活動安裝于第一卡條表面;
所述壓印機構包括凹形滑塊、長凸條、第七軸桿和壓印片,所述長凸條、第七軸桿和壓印片均固定于凹形滑塊表面。
進一步地,所述第一卡條和第二卡條的表面均開有條形凹槽,所述連接滑塊側表面固定有凸條,所述凸條與條形凹槽配合。
進一步地,兩個第一卡條和兩個第二卡條均相對設置。
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