[發明專利]一種兼具良好生物相容性和光熱轉換效果的氧化鉭涂層及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 201810135601.1
• 申請日: 2018-02-09
• 公開（公告）號: CN110129712A
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 謝有桃;丁玎;李愷;黃利平;趙君;鄭學斌
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/11;A61L27/30
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;熊子君

1.一種促體外成骨和光熱性能良好的氧化鉭涂層，其特征在于，所述氧化鉭涂層是由Ta₂O₅粉末采用等離子噴涂方法噴涂而成。

2.根據權利要求1所述的氧化鉭涂層，其特征在于，所述涂層形成于基材上，所述基材為醫用金屬材料，優選為鈦、不銹鋼、或鈷鉻鉬合金。

3.根據權利要求1或2所述的氧化鉭涂層，其特征在于，所述等離子噴涂方法為大氣等離子噴涂或真空等離子噴涂。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的氧化鉭涂層，其特征在于，所述氧化鉭涂層的厚度為20～300μm。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的氧化鉭涂層，其特征在于，所述氧化鉭涂層呈黑色。

6.一種權利要求1至5中任一項所述的氧化鉭涂層的制備方法，其特征在于，由Ta₂O₅粉末采用大氣等離子噴涂方法在基材上噴涂而制得所述氧化鉭涂層，其中，大氣等離子噴涂的工藝條件如下：等離子體氣體Ar流量為30～50 slpm；等離子體氣體 H₂流量為6～18slpm；噴涂距離為80～200 mm；噴涂功率為30～55 kW；送粉速率為8.0～30g/min。

7.一種權利要求1至5中任一項所述的氧化鉭涂層的制備方法，其特征在于，由Ta₂O₅粉末采用真空等離子噴涂方法在基材上噴涂而制得所述氧化鉭涂層，其中，真空等離子噴涂的工藝條件如下：真空度為80～100 mbar，等離子體氣體Ar流量為30～50 slpm；等離子體氣體 H₂流量為6～18 slpm；噴涂距離為80～330 mm；噴涂功率為30～55 kW；送粉速率為8.0～30 g/min。

8.根據權利要求6或7所述的制備方法，其特征在于，所述Ta₂O₅粉末由粒徑為1～100μm的原始Ta₂O₅粉末經過噴霧造粒技術球化而得。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，將所述原始Ta₂O₅粉末制備成固含量為30%～60%的漿料，噴入噴霧造粒機中，通過噴霧造粒得到球化粉料。

10.一種權利要求1至5中任一項所述的氧化鉭涂層在制備硬組織的修復與替換材料中的應用，尤其是在制備骨腫瘤光熱治療劑中的應用。