[發明專利]摩擦配向的方法及裝置、液晶顯示器件及基板

有效

• 申請號: 201810135505.7
• 申請日: 2018-02-09
• 公開（公告）號: CN108227310B
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發明（設計）人: 鄒祖旺;王學雷;司斌;李偉界;黃偉東;李建華
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 葉劍

1.一種摩擦配向的方法，其特征在于，包括：

將基板置于臺板機構上；所述臺板機構包括臺板本體和多個臺板單元，每個所述臺板單元相對于所述臺板本體運動；

通過摩擦輥摩擦所述基板，同時檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量，得到所述摩擦輥位于所述基板的當前位置的壓入量數值；其中，所述壓入量數值的數目為多個，多個所述壓入量數值一一對應于所述摩擦輥位于所述基板上的多個不同位置；

分別將所述壓入量數值與壓入量平均值進行比較，以判定所述壓入量數值與壓入量平均值的偏差值是否超出預定值；若所述偏差值超出預定值，則輸出控制信號；以及

根據所述控制信號調節所述摩擦輥所在的所述基板位置對應的所述臺板單元的高度，以調節所述摩擦輥的壓入量。

2.根據權利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通過摩擦輥摩擦所述基板，同時檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量的步驟具體為：通過摩擦輥摩擦所述基板，同時通過測距儀檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量。

3.根據權利要求2所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通過摩擦輥摩擦所述基板，同時測距儀檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量的步驟，還包括：同時通過離子發生器發出正負離子團，所述正負離子團用于中和所述摩擦輥與所述基板摩擦時產生的靜電離子。

4.根據權利要求2或3所述的摩擦配向的方法，其特征在于，在通過摩擦輥摩擦所述基板，同時通過測距儀檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量，同時通過離子發生器發出正負離子團之前，以及在將基板置于臺板機構上之后，還包括步驟：于所述摩擦輥的滾動的前端安裝所述測距儀。

5.根據權利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，所述壓入量平均值為0.2mm-0.6mm。

6.一種摩擦配向的裝置，其特征在于，所述裝置包括臺板機構、多個調節機構、摩擦輥、支撐架、壓力傳感器以及測距儀；所述臺板機構包括臺板本體和多個臺板單元，每個所述臺板單元相對于所述臺板本體運動，所述臺板機構用于承載并傳送基板，使所述基板相對于所述摩擦輥運動，多個所述調節機構與多個所述臺板單元一一對應連接，所述調節機構用于調節所述臺板單元的高度，以調節所述摩擦輥的壓入量，所述摩擦輥轉動連接于所述支撐架上，所述摩擦輥用于摩擦所述基板，每個所述臺板單元上設有所述壓力傳感器，所述壓力傳感器用于感應所述摩擦輥所在的所述基板位置相應的所述臺板單元的位置并輸出感應信號，所述測距儀設于所述支撐架上，且所述測距儀位于所述摩擦輥的滾動的前端，所述測距儀用于檢測所述摩擦輥摩擦所述基板時的壓入量并輸出控制信號，所述測距儀與所述調節機構通信連接，所述調節機構根據所述感應信號及所述控制信號調節所述摩擦輥所在的所述基板位置對應的所述臺板單元的高度，以調節所述摩擦輥的壓入量。

7.根據權利要求6所述的摩擦配向的裝置，其特征在于，所述裝置還包括緩沖機構，所述支撐架連接于所述緩沖機構上，所述緩沖機構用于調節所述支撐架的高度。

8.根據權利要求6所述的摩擦配向的裝置，其特征在于，所述裝置還包括離子發生器，所述離子發生器設置于所述支撐架上，且所述離子發生器位于所述摩擦輥的滾動的前端，所述離子發生器用于發出正負離子團，以中和所述摩擦輥與所述基板摩擦時產生的靜電離子。

9.一種基板，其特征在于，采用權利要求6至8中任一項所述的摩擦配向的裝置進行摩擦配向加工。

10.一種液晶顯示器件，其特征在于，所述液晶顯示器件包括權利要求9所述的基板。