[發(fā)明專利]一種金屬表面研磨拋光劑及制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810133722.2
• 申請(qǐng)日: 2018-02-09
• 公開（公告）號(hào): CN108192506A
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡志謀;葉麗清
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞華拓研磨材料有限公司
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 徐旭棟

本發(fā)明涉及金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，它涉及一種金屬表面研磨拋光劑及制備方法，包括以下重量份數(shù)的組分：研磨劑16?33份、消泡劑1?2份、碳酸鈉0.5?2份、表面活性劑0.5?2份、脂肪醇硫酸銨0.5?2份、表面調(diào)光劑0.5?1.5份、緩蝕劑0.5?1.5份、懸浮劑0.2?0.5份、抗凝劑0.2?0.6份、水60?70份，使用本發(fā)明的金屬表面研磨拋光劑對(duì)金屬表面進(jìn)行研磨拋光時(shí)可以減少中間多次粗磨與中磨環(huán)節(jié)，提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，它涉及一種金屬表面研磨拋光劑及制備方法。

背景技術(shù)

拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，降低工件表面的粗糙度，以獲得光亮、平整的表面的加工方法。拋光是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行修飾加工的一種表面處理加工工藝。通過對(duì)金屬工件進(jìn)行拋光處理后可以得到光滑的金屬表面或鏡面效果。

手機(jī)與數(shù)碼產(chǎn)品配件在生產(chǎn)加工過程中，工件與加工設(shè)備之間的摩擦、工件在運(yùn)輸過程中相互碰撞可能會(huì)使金屬工件表面產(chǎn)生磨痕、刀痕等，而加工過程中殘留在工件上的切削液、助洗劑等會(huì)對(duì)產(chǎn)品表面形成腐蝕白點(diǎn)，影響產(chǎn)品的美觀度，因此，經(jīng)初步加工后的半成品表面一般較為粗糙，需要對(duì)其表面進(jìn)行進(jìn)一步的加工處理。

現(xiàn)有技術(shù)中，通過對(duì)手機(jī)與數(shù)碼產(chǎn)品配件的金屬表面進(jìn)行研磨拋光處理，以除去加工過程中金屬表面殘留的劃痕和腐蝕白點(diǎn)，進(jìn)而使經(jīng)研磨拋光處理后的金屬表面呈現(xiàn)鏡面效果。但是，目前行業(yè)上對(duì)手機(jī)與數(shù)碼產(chǎn)品配件進(jìn)行研磨拋光處理時(shí)，需要對(duì)金屬表面進(jìn)行三次以上的粗磨與中磨，然后再精磨，經(jīng)過多次研磨后，再進(jìn)行鏡面拋光。研磨過程中由于采用粒徑介于2－5um單位研磨粒子，在首道工藝上已經(jīng)對(duì)產(chǎn)品工件造成了深度劃痕，必須再由后續(xù)多次研磨修復(fù)以去除劃痕，因此需要較長(zhǎng)的研磨時(shí)間，工藝繁瑣，且拋光效果差，生產(chǎn)效率低，不利于生產(chǎn)。

中國(guó)發(fā)明專利CN1654585A公開的核/殼型納米粒子研磨劑拋光液組合物及其制備方法，相比傳統(tǒng)的研磨拋光試劑及工藝，使用上述的研磨劑拋光液對(duì)金屬表面進(jìn)行研磨拋光處理，可縮短拋光時(shí)間，且拋光效果好，但是，上述研磨劑拋光液在制備過程中不僅需要對(duì)試劑進(jìn)行機(jī)械攪拌，還需采用超聲分散或球磨分散的方式對(duì)試劑進(jìn)行分散，制備方法較為繁瑣。

因此需要提出一種新的方案來解決這個(gè)問題。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的第一目的在于提供一種金屬表面研磨拋光劑，具有拋光效果好，且拋光效率高的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明的第一目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的：一種金屬表面研磨拋光劑，研磨劑16-33份、消泡劑1-2份、碳酸鈉0.5-2份、表面活性劑0.5-2份、脂肪醇硫酸銨0.5-2份、表面調(diào)光劑0.5-1.5份、緩蝕劑0.5-1.5份、懸浮劑0.2-0.5份、抗凝劑0.2-0.6份、水60-70份。

通過采用上述技術(shù)方案，研磨劑是一種含有摩擦材料的研磨用品，通過磨粒的摩擦作用產(chǎn)生的機(jī)械力，將產(chǎn)品表面經(jīng)化學(xué)反應(yīng)后形成的鈍化膜去除，達(dá)到對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行研磨和拋光的目的，從而使產(chǎn)品表面平整。使用時(shí)磨粒呈自由狀態(tài)。經(jīng)試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)研磨劑所占的重量份數(shù)為26-28份時(shí)，磨料的濃度適宜，研磨拋光效率高，當(dāng)所占的重量份數(shù)過高時(shí)，磨料的濃度過大，試劑的粘性過大，流動(dòng)性降低，影響金屬產(chǎn)品表面的氧化層的有效形成，導(dǎo)致拋光效率降低；當(dāng)研磨劑所占的重量份數(shù)過低時(shí)，磨料的數(shù)量過少，拋光效率也會(huì)隨之降低，拋光效果差。