[發明專利]一種無掩膜光刻技術中的鏡頭畸變矯正方法

有效

• 申請號: 201810132488.1
• 申請日: 2018-02-09
• 公開（公告）號: CN108305231B
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 楊剛;吳晨楓;鄭春紅;石峰
• 申請（專利權）人: 西安電子科技大學
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00;G06T3/40
• 代理公司: 西安西達專利代理有限責任公司 61202
• 代理人: 劉華

1.一種無掩模光刻技術中的鏡頭畸變矯正方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、根據DMD微鏡的面積和圖像的尺寸，按照映射關系計算在DMD微鏡中圖像上每個像素點與中心點的距離a_ij；

1)建立以圖像的中心點作為原點，水平方向為x軸，垂直方向為y軸建立圖像坐標系xO₂y，然后計算像素點在圖像坐標系中的坐標(i，j)；

2)根據DMD微鏡面積與圖像尺寸之間的映射關系，即如果圖像進行完全投影，則在投影時圖像將等比變換為DMD微鏡的大小，因此利用像素點的位置計算出像素點與圖像中心的實際距離a_ij；

步驟2、根據鏡頭出廠參數計算得出鏡頭與DMD微鏡之間的水平距離b，然后結合步驟1中得到的圖像上每個像素點與中心點的距離a_ij，然后利用反三角函數計算得出每個像素點與鏡頭光軸的夾角θ_ij；

步驟3、根據鏡頭出廠時的畸變參數和每個像素點與光軸的夾角θ_ij計算得到每個像素點的畸變量z_ij，并且利用像素點的位置計算得到在水平方向上的畸變量x_ij和垂直方向上的畸變量y_ij；

1)根據鏡頭出廠參數可知，鏡頭的非線性畸變與入射光線與鏡頭光軸的夾角有關，因此利用三次樣條插值算法擬合出步驟2中獲得的夾角θ_ij產生的非線性畸變量z_ij；

2)利用像素點的位置計算畸變量z_ij在水平方向上的投影x_ij和垂直方向上的投影y_ij，具體計算公式為：

步驟4、在于保證印刷電路板圖像信息不丟失的情況下，根據步驟3中得到的水平和垂直方向上的畸變量(x_ij，y_ij)對原始圖像中的像素點進行反向移位處理，從而得到預畸變圖像。