[發明專利]帶有耐污層的光學組件及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 201810128316.7
• 申請日: 2018-02-08
• 公開（公告）號: CN110133765A
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 賀赫;谷鋆鑫
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02B1/18;H01L31/0216
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 韋欣華;黃念

1.一種光學組件，其包含：

基材；

在所述基材上方的減反射層；和

在所述減反射層上方的耐污層，其中所述耐污層含有無機氧化物顆粒和無機氧化物基質，至少一部分無機氧化物顆粒的至少一部分體積延伸突出于無機氧化物基質表面。

2.如權利要求1所述的光學組件，其中所述基材選自玻璃、聚合物和半導體。

3.如權利要求1所述的光學組件，其中所述基材為透明或半透明的。

4.如權利要求1所述的光學組件，其中所述無機氧化物顆粒的粒徑為50-300nm，優選80-250nm，更優選100-200nm。

5.如權利要求1所述的光學組件，其中所述無機氧化物顆粒選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯及其組合。

6.如權利要求1所述的光學組件，其中所述無機氧化物基質包含二氧化硅凝膠，優選通過原硅酸四乙酯與鹽酸反應原位形成的二氧化硅凝膠。

7.如權利要求1所述的光學組件，其中基于所述耐污層的總量，所述耐污層含有0.1-10重量%，優選0.5-8重量%，更優選1-5重量%的所述無機氧化物顆粒。

8.如權利要求1所述的光學組件，其中基于所述無機氧化物顆粒的總量，所述無機氧化物基質的量為1-5重量%，優選2-4重量%。

9.如權利要求1所述的光學組件，其中減反射層包括多孔層，并任選包括位于所述基材和多孔層之間的在下層。

10. 一種制備如權利要求1所述的光學組件的方法，其包括以下步驟：

將減反射層施加在基材上；和

將耐污層施加在所述減反射層上，其中所述耐污層含有無機氧化物顆粒和無機氧化物基質，至少一部分無機氧化物顆粒的至少一部分體積延伸突出于無機氧化物基質表面。

11.如權利要求10所述的方法，其中施加減反射層的步驟包括：任選施加在下層和施加多孔層。

12.如權利要求11所述的方法，其中施加在下層包括步驟：

混合原硅酸四乙酯與鹽酸形成二氧化硅凝膠溶液，

將二氧化硅凝膠溶液施加在基材上，和

干燥。

13.如權利要求11所述的方法，其中施加多孔層包括步驟：

混合原硅酸四乙酯與鹽酸形成二氧化硅凝膠溶液，

向二氧化硅凝膠溶液中加入聚合物珠和粒徑為50-300nm，優選80-250nm，更優選100-200nm的二氧化硅顆粒，和

將得到的懸浮液涂覆在基材或如果存在在下層則涂覆在在下層上。

14.如權利要求11所述的方法，其中施加耐污層的步驟包括：

混合原硅酸四乙酯與鹽酸形成二氧化硅凝膠溶液，

混合二氧化硅凝膠溶液和無機氧化物顆粒，

將得到的懸浮液施加在減反射層上，和

干燥。