[發明專利]一種光刻膠的制備方法，光刻膠及濾光片在審
| 申請號： | 201810121751.7 | 申請日： | 2018-02-06 |
| 公開（公告）號： | CN108345175A | 公開（公告）日： | 2018-07-31 |
| 發明（設計）人： | 于曉平 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G02B5/22 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 鐘子敏 |
| 地址： | 518006 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制備 光刻膠 顏料溶液 分散處理 硅氧烷聚合物 水解縮聚反應 光反應單體 反應基團 分散劑 硅烷偶聯劑 表面包覆 表面形成 表面異物 樹脂結合 有效減少 濾光片 小黑點 樹脂 顏料 申請 | ||
1.一種光刻膠的制備方法，其特征在于，所述方法包括：
制備獲得顏料溶液；
將硅烷偶聯劑加入所述顏料溶液中，進行水解縮聚反應，以使得所述顏料的表面包覆硅氧烷聚合物，且在所述硅氧烷聚合物的表面形成反應基團；
將進行水解縮聚反應后的顏料溶液與分散劑混合，進行分散處理；
將分散處理后的顏料溶液與光反應單體、樹脂進行混合以得到所述光刻膠；
其中，所述反應基團在進行分散處理時與所述分散劑結合，或者在進行混合時與所述光反應單體或所述樹脂結合。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備獲得顏料溶液，包括：
利用聚電解質對顏料進行處理，以獲得顏料溶液，所述顏料溶液中顏料的表面帶有正電荷。
3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述利用聚電解質對顏料進行處理，包括：
將顏料與PSS和去離子水混合，使所述顏料表面帶有負電荷；
然后將表面帶有負電荷的顏料溶解在PDDA溶液中，使得所述顏料表面帶有正電荷。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述將硅烷偶聯劑加入所述顏料溶液中，包括：
將氨溶液和硅烷偶聯劑混合后加入所述顏料溶液中。
5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述氨溶液的濃度為0.05g/L～0.5g/L，所述硅烷偶聯劑的濃度為0.01mol/L～0.05mol/L。
6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述將硅烷偶聯劑加入所述顏料溶液中，進行水解縮聚反應，包括：
將硅烷偶聯劑加入所述顏料溶液中，在常溫下進行水解縮聚反應10～30小時。
7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述反應基團包括不飽和鍵、羥基基團或氨基基團。
8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述將分散處理后的顏料溶液與光反應單體、樹脂進行混合以得到所述光刻膠，包括：
將分散處理后的顏料溶液與光反應單體、樹脂、開始劑、添加劑以及溶劑進行混合以得到所述光刻膠。
9.一種光刻膠，其特征在于，所述光刻膠包括表面包覆硅氧聚合物的顏料、分散劑、光反應單體以及樹脂，所述顏料通過所述硅氧聚合物表面的反應基團與所述分散劑、所述光反應單體或所述樹脂結合。
10.一種濾光片，其特征在于，所述濾光片由權利要求9中所述的光刻膠制得。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電技術有限公司，未經深圳市華星光電技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810121751.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
