[發明專利]一種利用電石作為氣體來源的摻氣設施及方法

有效

• 申請號: 201810121423.7
• 申請日: 2018-02-07
• 公開（公告）號: CN108560477B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 王韋;李偉;田忠;符煒東
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: E02B1/00
• 分類號: E02B1/00;E02B8/06
• 代理公司: 成都玖和知識產權代理事務所(普通合伙) 51238
• 代理人: 胡琳梅

1.一種利用電石作為氣體來源的摻氣設施，包括U型基殼(1)，其特征在于，根據溢洪道的寬度，在溢洪道上建造一個或多個所述摻氣設施，若溢洪道長度較長，則設置多級摻氣裝置，則兩級摻氣設施之間的間距L＜100m；

所述U型基殼(1)的內表面開設若干反應孔(3)，在所述U型基殼(1)內填充電石顆粒(2)；所述反應孔(3)的孔徑D＝5～8mm，所述反應孔(3)間距相等，間距范圍為l＝1～3D。

2.如權利要求1所述的一種利用電石作為氣體來源的摻氣設施，其特征在于，所述U型基殼(1)水平段的高h₀＝0.5～0.8b，其中b為所述U型基殼(1)的兩立柱體的寬。

3.如權利要求2所述的一種利用電石作為氣體來源的摻氣設施，其特征在于，所述電石顆粒(2)的粒徑d＝2～6mm，且d＜D。

4.如權利要求3所述的一種利用電石作為氣體來源的摻氣設施，其特征在于，所述U型基殼(1)為混泥土結構。

5.基于權利要求1～4任意一項所述的摻氣設施的一種摻氣方法，其特征在于，包括以下步驟：

(a)根據溢洪道的寬度，在溢洪道上建造一個或多個所述摻氣設施，若溢洪道長度較長，則設置多級摻氣裝置，則兩級摻氣設施之間的間距L＜100m；

(b)在所述U型基殼(1)內表面接觸水流壁面開孔，水流經摻氣設施時，通過反應孔(3)與電石顆粒(2)接觸后發生化學反應：CaC₂+2H₂O＝Ca(OH)₂+C₂H₂↑；

(c)反應產生的氣體流向下游時，因水流的紊動而充滿整個水流斷面，有明顯的調節水流作用，使水流平順，不會出現邊墻清水三角區。