[發明專利]簡便提高淬火速度的雙噴頭液氮噴射實驗用裝置

有效

• 申請號: 201810117784.4
• 申請日: 2018-02-06
• 公開（公告）號: CN108396124B
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 楊明;梁益龍;龍紹檑;龔乾江;尹存宏
• 申請（專利權）人: 貴州大學
• 主分類號: C21D6/04
• 分類號: C21D6/04;C21D1/667
• 代理公司: 北京聯創佳為專利事務所(普通合伙) 11362
• 代理人: 石誠

1.一種簡便提高淬火速度的雙噴頭液氮噴射實驗用裝置，其特征在于：包括有液氮供應源(1)，液氮供應源(1)經液氮輸送管(2)與液氮噴頭(3)連接，液氮噴頭(3)左右對稱地設置在液氮噴射工作室(4)的左右側壁上，液氮噴射工作室(4)內設有試樣夾持裝置和感應加熱裝置，所述試樣夾持裝置包括有設置在液氮噴射工作室(4)頂部上的凹槽(5)，凹槽(5)中卡入有凸模滑塊(6)，凸模滑塊(6)連接有L形棒(7)，L形棒(7)頭端為U型槽，U型槽中放置試樣(8)，L形棒(7)和試樣(8)在U型槽中依靠墊片和螺栓連接，試樣(8)尾部連接有熱電偶(9)；

所述液氮噴射工作室(4)的左右側壁上各斜向下設置有1個圓孔，液氮噴頭(3)從圓孔中伸入至液氮噴射工作室(4)內，所述圓孔中設有萬向接頭，萬向接頭兩端分別連接液氮輸送管(2)與液氮噴頭(3)，萬向接頭上連接有驅動電機，液氮噴射工作室(4)為半封閉結構；

使用時，液氮輸送管(2)在保持液氮不予以氣化的前提下將液氮經液氮噴頭(3)輸送至液氮噴射工作室(4)內部；

所述感應加熱裝置為設置在液氮噴射工作室(4)內的感應線圈(10)，沿著凹槽(5)推動凸模滑塊(6)可將試樣(8)推入至感應線圈(10)中。

2.根據權利要求1所述的簡便提高淬火速度的雙噴頭液氮噴射實驗用裝置，其特征在于：所述液氮供應源(1)為高壓液氮罐，高壓液氮罐上設有流量控制單元，流量控制單元包括流量計、氣壓表和氣壓閥。

3.根據權利要求1所述的簡便提高淬火速度的雙噴頭液氮噴射實驗用裝置，其特征在于：所述圓孔為斜向下45°設置。