[發明專利]一種色漿回流利用機構以及經紗圓網印花和上漿聯合系統有效
| 申請號: | 201810116474.0 | 申請日: | 2018-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN108589107B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 高衛東;朱博;范雪榮;王文元;張永輝;張小麗;王海峰 | 申請(專利權)人: | 江南大學 |
| 主分類號: | D06B3/04 | 分類號: | D06B3/04;D06B15/00;D06B19/00;D06B23/20;B41F15/08;B41F15/12;B41F15/14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 回流 利用 機構 以及 經紗 印花 上漿 聯合 系統 | ||
本發明公開了一種色漿回流利用機構以及經紗圓網印花和上漿聯合系統,其包括,退繞機構,圓網印花機構,第一烘燥機構,漿紗機構,第二烘燥機構,收卷機構以及色漿回流利用機構。本發明通過印花導送組件兩側分別增加第一調節組件和第二調節組件,不僅可以提高經紗片的勻整性,而且通過第一調節組件的施壓滲透作用,有利于提高色漿的滲化率,該方法有利于提高印花穩定性、印花質量;紗線經過印花后烘燥。同時,色漿回流利用機構的設置,實現了印花色漿的回流處理,有利于節約漿料、同時避免了清洗導帶的水資源浪費和廢水污染問題。
技術領域
本發明涉及的紡織印花技術領域,尤其涉及一種色漿回流利用機構以及經紗圓網印花和上漿聯合系統。
背景技術
經紗直接印花而后再上機織造的織物稱為印經織物,其層次感豐富,具有獨特的色彩和風格,受到市場的普遍歡迎。圓網印花在經紗印花中被普遍應用,然而圓網印花的導帶在對經紗印花過程中,容易沾染從經紗透過的色漿,為了保證能夠正常地印花,目前圓網印花一般配導帶水洗裝置,在每一個印花周期后對其進行清洗。但目前的清洗方式存在用水量大、浪費漿料、并產生大量污染等缺點。另外由于經紗間間隙相對織物的間隙更大,造成更多的色漿殘留在導帶上。
發明內容
本部分的目的在于概述本發明的實施例的一些方面以及簡要介紹一些較佳實施例。在本部分以及本申請的說明書摘要和發明名稱中可能會做些簡化或省略以避免使本部分、說明書摘要和發明名稱的目的模糊,而這種簡化或省略不能用于限制本發明的范圍。
鑒于上述和/或現有的經紗印花工序中存在的問題,提出了本發明。
因此,本發明其中的一個目的是提供一種色漿回流利用機構,其能夠實現色漿回收利用,且有利于節約漿料、同時避免了清洗導帶的水資源浪費和廢水污染問題。
為解決上述技術問題,本發明提供如下技術方案:一種色漿回流利用機構,其包括,采集組件,包括采集部和外接部,兩者互相銜接;匯流組件,設置于所述采集組件的正下方,所述匯流組件區分為第一匯流部和第二匯流部;所述第一匯流部外端口的正下方設置有回收件;以及,導流組件,其下端與所述回收件連接,上端與印花組件進行連接,且所述導流組件上還設置有驅動供應件。
本發明的另一個目的是提供一種經紗圓網印花和上漿聯合系統,其有利于提高印花穩定性、印花質量,由于印花和漿紗同機完成,縮短了工藝流程。
為解決上述技術問題,本發明提供如下技術方案:一種經紗圓網印花和上漿聯合系統,其包括,退繞機構,包括主動組件、導送組件和承載組件,所述主動組件和導送組件均設置于所述承載組件上,所述主動組件設置于所述導送組件一端;圓網印花機構,設置于所述承載組件上,所述圓網印花機構包括第一調節組件,且所述第一調節組件的外端設置有第一烘燥機構;漿紗機構,相對于所述圓網印花機構設置于所述第一烘燥機構的另一端;收卷機構,設置于所述經紗圓網印花和上漿聯合系統的末端,且所述收卷機構與所述漿紗機構之間還設置有第二烘燥機構;以及,色漿回流利用機構。
本發明的有益效果:本發明設計合理,結構緊湊,通過印花導送組件兩側分別增加第一調節組件和第二調節組件,不僅可以提高經紗片的勻整性,而且通過第一調節組件的施壓滲透作用,有利于提高色漿的滲化率,該方法有利于提高印花穩定性、印花質量;紗線經過印花后烘燥,然后進行漿紗然后二次烘燥,印花和漿紗同機完成,縮短了工藝流程,具有經濟環保的重要價值,滿足使用需求。同時,色漿回流利用機構的設置,實現了印花色漿的回流處理,有利于節約漿料、同時避免了清洗導帶的水資源浪費和廢水污染問題。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。其中:
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