[發明專利]一種基于絮凝作用的污水處理系統

在審

• 申請號: 201810114180.4
• 申請日: 2018-02-05
• 公開（公告）號: CN108147588A
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發明（設計）人: 朱汛
• 申請（專利權）人: 朱汛
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 沈淼

本發明涉及污水處理系統領域，特別涉及一種基于絮凝作用的污水處理系統，其技術方案要點是：包括配藥裝置、污水泵、混合裝置、絮凝裝置和壓濾裝置，所述配藥裝置與污水泵連接，將配藥裝置中的藥水與污水泵中的污水合流后送入混合裝置；所述混合裝置與絮凝裝置連接，所述絮凝裝置與所述壓濾裝置連接；還包括加水清洗裝置，所述加水清洗裝置與所述混合裝置的連接，用于為污水和藥水合流后的液體調整濃度，所述加水清洗裝置與所述壓濾裝置連接，用于清洗所述壓濾裝置。其具有能夠對壓濾裝置進行清潔和對藥劑濃度進行二次調節的優點。

技術領域

本發明涉及污水處理系統領域，特別涉及一種基于絮凝作用的污水處理系統。

背景技術

目前，公開號為CN104370432A的中國專利公開了一種降低絮凝劑用量的污水處理工藝。它包括如下步驟：步驟，將污泥泵入污泥濃縮池進行污泥濃縮；將步驟中的濃縮污泥通過污泥泵泵入動態混合器；將藥液攪拌池中的藥液泵入加藥池進行加藥配比；將步驟中加藥池經過加藥配比后的藥液經過藥劑泵泵入動態混合器；動態混合器對濃縮污泥和藥液進行動態混勻；將經過步驟動態混勻后污泥泵入污泥壓濾機進行壓濾操作；將經過步驟壓濾后的濾餅排出污泥壓濾機，剩下的濾液排入濾液沉淀池進行集中沉淀；將沉淀池中的上清液泵入藥液攪拌池進行均勻攪拌；重復步驟的操作；將步驟中濾液沉淀池中的沉淀物從池底抽出，導入污泥濃縮池進行步驟操作。

該發明雖然提供了一種可以避免絮凝劑浪費和對環境造成二次污染的降低絮凝劑用量的污水處理工藝，但是：該處理工藝用到的污水處理設備不具有加水清洗裝置，無法對壓濾裝置進行清潔，也無法對藥劑濃度進行二次調節。

發明內容

本發明是提供一種基于絮凝作用的污水處理系統，其具有能夠對壓濾裝置進行清潔和對藥劑濃度進行二次調節的優點。

本發明的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：

一種基于絮凝作用的污水處理系統，包括配藥裝置、污水泵、混合裝置、絮凝裝置和壓濾裝置，所述配藥裝置與污水泵連接，將配藥裝置中的藥水與污水泵中的污水合流后送入混合裝置；所述混合裝置與絮凝裝置連接，所述絮凝裝置與所述壓濾裝置連接；還包括加水清洗裝置，所述加水清洗裝置與所述混合裝置的連接，用于為污水和藥水合流后的液體調整濃度，所述加水清洗裝置與所述壓濾裝置連接，用于清洗所述壓濾裝置。

通過采用上述技術方案，設置加水清洗裝置，加水清洗裝置與混合裝置連接，通過向混合裝置加水，對污水和藥水合流后的液體進行濃度調節，從而實現對藥劑濃度進行二次調節；加水清洗裝置與壓濾裝置連接，能夠清洗壓濾裝置，清潔壓濾裝置上殘留的污泥，防止壓濾裝置上污泥堆積造成堵塞，影響過濾效果。

進一步設置：所述配藥裝置包括箱體，所述箱體的一側設置有進水口，箱體的另一側設置有出水口，所述箱體內自進水口到出水口通過隔板分隔為第一腔室、第二腔室和第三腔室；所述第一腔室、第二腔室和第三腔室內均設置有攪拌器；所述第一腔室與第二腔室之間以及第二腔室與第三腔室之間均設置有溢流口；所述配藥裝置的上方設置有自動加藥裝置，所述自動加藥裝置的下部設置有初混區，所述初混區上連接有第一清水管；所述箱體的進水口上連接有第二清水管，所述第二清水管上設置有閥門、流量計和壓力表；所述第一腔室的底部、所述第二腔室的底部和所述第三腔室的底部均設置有放空閥，三個所述放空閥通過管道依次連接，并與截止閥連接。

通過采用上述技術方案，設置三個配藥腔室，藥劑與清水能夠充分混合；設置自動加藥裝置，自動加藥裝置上設置初混區，第一清水管與初混區連接，使得藥劑能夠在初混區與清水初步混合，一方面能夠避免藥劑結塊堵塞自動加藥裝置的出料口，另一方面，進行初步混合能夠使得藥劑混合更加快速；相鄰腔室頂部設置溢流口，在通常情況下，藥劑和清水的混合液通過溢流口從第一腔室進入第二腔室或從第二腔室進入第三腔室；在需要加快藥劑混合速度時，打開腔室底部的放空閥，關閉截止閥，能夠使第一腔室、第二腔室、第三腔室通過底部放空閥之間的管道連通，液體快速在第一腔室、第二腔室、第三腔室之間流動。