[發明專利]一種超薄鹵氧化鉍納米片及其制備和應用在審
| 申請號： | 201810114010.6 | 申請日： | 2018-02-05 |
| 公開（公告）號： | CN108380226A | 公開（公告）日： | 2018-08-10 |
| 發明（設計）人： | 葉立群;王麗;馬照宇;謝海泉 | 申請（專利權）人： | 南陽師范學院 |
| 主分類號： | B01J27/06 | 分類號： | B01J27/06;B01J35/02;C01B32/40;C07C1/02;C07C9/04;C10L3/08 |
| 代理公司： | 鄭州銘晟知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 41134 | 代理人： | 李靜雅 |
| 地址： | 473061 河南*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鹵氧化鉍 納米片 制備和應用 制備過程 增稠劑 羥丙基瓜爾豆膠 制備方法工藝 氯化鉀 大分子顆粒 光催化還原 五水硝酸鉍 可見光 層狀結構 催化效率 低溫制備 瓜爾豆膠 光催化劑 綠色環保 納米級別 應用空間 原料混合 水解法 溴化鉀 制備 團聚 響應 | ||
【權利要求書】：
1.一種超薄鹵氧化鉍納米片的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）稱取瓜爾豆膠和五水硝酸鉍，混合均勻后研磨得前驅體；
（2）將上述制得的前驅體緩慢加入到含有含鹵素陰離子的水溶液中，混合攪拌均勻制得糊狀液體；
（3）向糊狀液體中加入水，然后攪拌反應制得產物，然后將產物洗滌、干燥制得超薄鹵氧化鉍納米片。
2.如權利要求1所述的超薄鹵氧化鉍納米片的制備方法，其特征在于：所述步驟（1）中瓜爾豆膠的用量為五水硝酸鉍質量的0.2%-2%，研磨時間為30-45min。
3.如權利要求1所述的超薄鹵氧化鉍納米片的制備方法，其特征在于：所述步驟（2）中含鹵素陰離子的水溶液為氯化鉀或溴化鉀的一種，濃度為0.01-0.1mol/L。
4.如權利要求1所述的超薄鹵氧化鉍納米片的制備方法，其特征在于：所述步驟（3）中水的加入量為鹵素陰離子水溶液的18-21倍，攪拌時間為3-5h,反應溫度為30-70℃。
5.如權利要求1所述的超薄鹵氧化鉍納米片的制備方法，其特征在于：所述步驟（3）中制得的鹵氧化鉍納米片為層狀結構，材料尺寸為10-15nm。
6.如權利要求1-5所述的任一方法制備的超薄鹵氧化鉍納米片。
7.如權利要求6所述的超薄鹵氧化鉍納米片在光催化還原CO2領域的應用。
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