[發(fā)明專利]一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810112869.3 | 申請日: | 2018-02-05 |
| 公開(公告)號: | CN108311436A | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊達 | 申請(專利權)人: | 成都倫索科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B1/04 | 分類號: | B08B1/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610000 四川省成都市高新區(qū)*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相機鏡頭 清潔塊 清潔 橡膠固定塊 清潔機構 水下視頻 固定塊 活動塊 圓弧度 海綿 放射狀設置 圓心 橫向剖面 間隔調節(jié) 清潔轉盤 縱向剖面 鏡頭 螺紋槽 圓柱狀 圓錐板 拍攝 貼合 握桿 裝盤 擦拭 開口 輪換 切合 橡膠 | ||
本發(fā)明公開了一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構,包括清潔握桿、清潔轉盤以及清潔塊,其通過將螺紋槽設置呈圓柱狀,其基于清潔裝盤的圓心呈放射狀設置有四個,使此發(fā)明結構在工作時,可以根據相機鏡頭的不同大小來進行清潔塊的間隔調節(jié);通過將清潔塊橫向剖面設置呈六分之一圓錐板狀,縱向剖面設置呈開口朝向相機鏡頭的“L”狀,且活動塊的圓弧度小于清潔塊的圓弧度,使此發(fā)明在使用時,清潔塊與相機鏡頭的貼合快速,且可以對鏡頭進行多方位的清潔;通過將海綿固定塊與橡膠固定塊基于活動塊設置呈交錯狀排列,該海綿固定塊的高度大于橡膠固定塊的高度,使此使用新型中海綿和橡膠可以輪換著對鏡頭進行清潔擦拭,切合實際。
技術領域
本發(fā)明涉及相機鏡頭清潔相關技術領域,具體為一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構。
背景技術
水下攝像機是可以在水下用的攝影機,外加密封抗壓外殼,一般采用工業(yè)攝像機為核心部件,且水下攝像機是采用高質量電纜為視頻傳輸控制線,外加控制箱,放線絞車等輔助控制設備組成的水下攝像系統(tǒng),其主要應用于石油、深水探測,水下作業(yè),海洋漁業(yè)等水下領域,主要功能是測量,監(jiān)控,勘探等等,但是由于水下攝像機的工作環(huán)境的原因,相機鏡頭上通常會沾附一些難以擦去的東西,導致水下攝像機難以正常工作,造成了很多不必要的麻煩,為此我們提出一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構用于解決上述問題。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發(fā)明提供如下技術方案:一種水下視頻拍攝相機鏡頭清潔機構,包括清潔握桿、清潔轉盤以及清潔塊,所述清潔握桿的上端設置有固定塊,該固定塊的左端設置有轉動電機,右端設置有傳動桿以及清潔轉盤,該傳動桿的左端與轉動電機固定連接,右端與清潔轉盤傳動連接,且固定塊與傳動桿活動連接,所述清潔轉盤的左端設置有緊固螺栓,右端設置有清潔塊,該清潔轉盤基于緊固螺栓相應的設置有螺紋槽,且緊固螺栓貫穿螺紋槽與清潔塊固定連接,所述清潔塊的外表面上設置有固定毛刷以及活動塊,該活動塊的外表面上設置有海綿固定塊以及橡膠固定塊,固定毛刷設置于活動塊的外端,且清潔塊的內部還設置有開口槽、內置滑槽以及限位滾珠,該內置滑槽設置于開口槽的內壁上,限位滾珠與內置滑槽滑動連接。
優(yōu)選的,所述螺紋槽呈圓柱狀,其基于清潔裝盤的圓心呈放射狀設置有四個,且緊固螺栓以及清潔塊與螺紋槽始終處于同一平面上。
優(yōu)選的,所述清潔塊橫向剖面呈六分之一圓錐板狀,縱向剖面呈開口朝向相機鏡頭的“L”狀。
優(yōu)選的,所述活動塊的圓弧度小于清潔塊的圓弧度,其通過限位滾珠與清潔塊滑動連接。
優(yōu)選的,所述海綿固定塊與橡膠固定塊基于活動塊呈交錯狀排列,該海綿固定塊的高度大于橡膠固定塊的高度。
與現有技術相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明通過將螺紋槽設置呈圓柱狀,其基于清潔裝盤的圓心呈放射狀設置有四個,且緊固螺栓以及清潔塊與螺紋槽始終處于同一平面上,使此發(fā)明結構在工作時,可以根據相機鏡頭的不同大小來進行清潔塊的間隔調節(jié);通過將清潔塊橫向剖面設置呈六分之一圓錐板狀,縱向剖面設置呈開口朝向相機鏡頭的“L”狀,且活動塊的圓弧度小于清潔塊的圓弧度,其通過限位滾珠與清潔塊滑動連接,使此發(fā)明在使用時,清潔塊與相機鏡頭的貼合快速,且可以對鏡頭進行多方位的清潔;通過將海綿固定塊與橡膠固定塊基于活動塊設置呈交錯狀排列,該海綿固定塊的高度大于橡膠固定塊的高度,使此發(fā)明在使用時,海綿和橡膠可以輪換著對鏡頭進行清潔擦拭,切合實際。
附圖說明
圖1為本發(fā)明結構示意圖;
圖2為本發(fā)明清潔轉盤結構示意圖;
圖3為圖1中A處放大結構示意圖。
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