[發明專利]一種基于真空滅弧的渦流驅動斷路器

在審

• 申請號: 201810112194.2
• 申請日: 2018-02-05
• 公開（公告）號: CN108198727A
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發明（設計）人: 王川;張國勇;宋安超
• 申請（專利權）人: 安徽徽電科技股份有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/666
• 代理公司: 合肥天明專利事務所(普通合伙) 34115
• 代理人: 奚華保

本發明涉及一種基于真空滅弧的渦流驅動斷路器，包括固定殼體以及依次嵌入安裝在固定殼體內的真空滅弧室、超行程安裝體、隔離絕緣子和渦流驅動機構。所述渦流驅動機構包括自上向下依次設置的合閘磁軛、吸板、分閘磁軛、分閘線圈固定板、渦流盤和合閘線圈固定板。所述分閘線圈固定板上設有分閘線圈。所述合閘線圈固定板上設有合閘線圈。由以上技術方案可知，本發明通過渦流感應磁場及控制電路控制驅動真空滅弧室上下運動，實現真空滅弧室的合分閘動作。本發明能夠實現2ms分閘、6ms合閘，能夠有效提高斷路器的合分閘速度及穩定性。

技術領域

本發明涉及真空斷路器技術領域，具體涉及一種基于真空滅弧的渦流驅動斷路器。

背景技術

在現有的真空斷路器產品中，斷路器的分合閘速度都不高，分合閘時間都有幾十個毫秒。如此長的時間，在一些特殊的場合中已經很難起到保護的效果。在快速切換裝置、開關型串聯補償裝置等保護裝置中，急需一種高速的真空斷路器。

發明內容

本發明的目的在于提供一種基于真空滅弧的渦流驅動斷路器，該斷路器能夠解決現有技術中存在的不足，有效提高斷路器的合分閘速度及穩定性。

為實現上述目的，本發明采用了以下技術方案：

一種基于真空滅弧的渦流驅動斷路器，包括固定殼體以及依次嵌入安裝在固定殼體內的真空滅弧室、超行程安裝體、隔離絕緣子和渦流驅動機構；所述渦流驅動機構包括自上向下依次設置的合閘磁軛、吸板、分閘磁軛、分閘線圈固定板、渦流盤和合閘線圈固定板；所述分閘線圈固定板上設有分閘線圈；所述合閘線圈固定板上設有合閘線圈。

進一步的，所述真空滅弧室、超行程安裝體、隔離絕緣子包括從左向右依次設置的三組，且每組隔離絕緣子的下方均設有連接桿，其中，左右兩組隔離絕緣子下方的連接桿的下端均連接在吸板上，中間一組隔離絕緣子下方的連接桿的下端依次穿過合閘磁軛、吸板、分閘磁軛、分閘線圈固定板、渦流盤后和合閘線圈固定板相連。

進一步的，所述超行程安裝體包括若干組碟簧。

進一步的，所述合閘磁軛和分閘磁軛均包括強磁性磁鐵。

進一步的，所述渦流盤為鋁盤。

由以上技術方案可知，本發明通過渦流感應磁場及控制電路控制驅動真空滅弧室上下運動，實現真空滅弧室的合分閘動作。本發明能夠實現2ms分閘、6ms合閘，能夠有效提高斷路器的合分閘速度及穩定性。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

其中：

1、固定殼體，2、真空滅弧室，3、超行程安裝體，4、隔離絕緣子，5、合閘磁軛，6、吸板，7、分閘磁軛，8、分閘線圈固定板，9、渦流盤，10、合閘線圈固定板，11、連接桿。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明做進一步說明：