[發(fā)明專利]獲得刻蝕深度極限值的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810107621.8
• 申請(qǐng)日: 2018-02-02
• 公開（公告）號(hào): CN110137097B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林源為
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66;G06F17/11
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

1.一種獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1，輸入至少三組數(shù)據(jù)，每組數(shù)據(jù)包括刻蝕深度的值和對(duì)應(yīng)的工藝循環(huán)次數(shù)；

S2，計(jì)算各組所述數(shù)據(jù)中的平均刻蝕率，所述平均刻蝕率為所述刻蝕深度的值與所述工藝循環(huán)次數(shù)的比值；

S3，利用線性擬合的方法擬合出所述平均刻蝕率與所述工藝循環(huán)次數(shù)之間關(guān)系的線性方程；

S4，根據(jù)所述線性方程獲得刻蝕深度與工藝循環(huán)次數(shù)之間關(guān)系的二次曲線，并根據(jù)二次曲線計(jì)算刻蝕深度的極限值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，在步驟S3中，所述線性擬合的方法包括最小二乘法；獲得的線性方程為：y＝ax+b；

其中，變量y代表所述平均刻蝕率，變量x代表所述工藝循環(huán)次數(shù)；并且，

i＝1,2,...,m,m為所述數(shù)據(jù)的組數(shù)；x_i為第i組數(shù)據(jù)中的工藝循環(huán)次數(shù)；y_i為第i組數(shù)據(jù)中的所述平均刻蝕率；為m組數(shù)據(jù)中所述工藝循環(huán)次數(shù)的平均值；為m組數(shù)據(jù)中所述平均刻蝕率的平均值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，在步驟S4中，獲得的刻蝕深度與工藝循環(huán)次數(shù)之間關(guān)系的二次曲線為：h＝an²+bn；

其中，變量h代表所述刻蝕深度，變量n代表所述工藝循環(huán)次數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，在步驟S4中，對(duì)所述二次曲線求極值，獲得所述刻蝕深度的極限值為：h_limit＝-b²/4a。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，所述方法還包括步驟S3’，所述步驟S3’在所述步驟S3之前或者之后進(jìn)行，或者與所述步驟S3同時(shí)進(jìn)行；所述步驟S3’包括：

S31’，計(jì)算各組數(shù)據(jù)中所述平均刻蝕率與所述工藝循環(huán)次數(shù)之間的線性相關(guān)系數(shù)；

S32’，判斷該線性相關(guān)系數(shù)是否大于或者等于預(yù)設(shè)達(dá)標(biāo)值；若是，則進(jìn)行步驟S3，若否，則進(jìn)行步驟S33’；

S33’，判斷所述數(shù)據(jù)是否大于三組，若是，則進(jìn)行步驟S34’，若否，則返回執(zhí)行步驟S1；

S34’，選擇任意三組數(shù)據(jù)來執(zhí)行步驟S31’，且判斷該線性相關(guān)系數(shù)是否大于或者等于所述預(yù)設(shè)達(dá)標(biāo)值；若是，則進(jìn)行步驟S3；若否，則返回執(zhí)行步驟S1。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，步驟S31’中，根據(jù)下述公式計(jì)算所述平均刻蝕率與所述工藝循環(huán)次數(shù)之間的線性相關(guān)系數(shù)：

其中，X為工藝循環(huán)次數(shù)；Y為平均刻蝕率；r(X,Y)為線性相關(guān)系數(shù)；Cov(X,Y)為X和Y的協(xié)方差；Var(X)為X的方差；Var(Y)為Y的方差。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)達(dá)標(biāo)值為0.97。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，所述至少三組數(shù)據(jù)通過進(jìn)行對(duì)應(yīng)組數(shù)的試驗(yàn)獲得，各組試驗(yàn)采用的所述工藝循環(huán)次數(shù)不同，而其他工藝參數(shù)均相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，每組試驗(yàn)包括沉積步驟和刻蝕步驟，所述工藝循環(huán)次數(shù)為循環(huán)進(jìn)行所述沉積步驟和刻蝕步驟的次數(shù)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或8或9所述的獲得刻蝕深度極限值的方法，其特征在于，該方法應(yīng)用于深硅刻蝕工藝中。