[發明專利]用于X光機的自動曝光劑量調節方法和系統及存儲介質

在審

• 申請號: 201810102709.0
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN110101399A
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 李莉
• 申請（專利權）人: 上海西門子醫療器械有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及用于X光機的自動曝光劑量調節方法和系統及存儲介質。在一實施方式中，X光機包括發生器和探測器，用于X光機的自動曝光劑量調節方法包括：以選定預曝光參數進行預曝光，獲得預曝光圖像，基于所述預曝光圖像計算所述探測器端的預曝光劑量Dose_T?PRE；根據所述選定預曝光參數計算所述發生器端的曝光點EP_T?PRE；確定探測器端的目標劑量Dose_Target；基于所述探測器端的預曝光劑量Dose_T?PRE和目標劑量Dose_Target以及所述發生器端的曝光點EP_T?PRE計算探測器端的曝光點EP_T。本發明提出的自動曝光劑量調節方案耗時短、圖像采集幀數少、流程簡單、結果準確，同時也降低對發生器性能的要求。

技術領域

本發明涉及醫療器械技術領域，特別是一種用于X光機的自動曝光劑量調節方法和系統及存儲介質。

背景技術

目前，具有自動曝光劑量調節的X光機被廣泛應用于醫療檢查和手術，例如C臂X光機等。通常，X光機基于其發生器來調節曝光劑量，這對發生器的性能提出了較高要求。這樣一來，不僅X光機的成本較高，并且通過這種方式實現的曝光劑量調節仍存在一些不足之處，如過程復雜、消耗時間較多、圖像采集幀數較多且調節結果偏差較大。

發明內容

有鑒于此，本發明一方面提出了一種用于X光機的自動曝光劑量調節方法，所述X光機包括發生器和探測器，所述方法包括：以選定預曝光參數進行預曝光，獲得預曝光圖像，基于所述預曝光圖像計算所述探測器端的預曝光劑量Dose_T-PRE；根據所述選定預曝光參數計算所述發生器端的曝光點EP_T-PRE；確定探測器端的目標劑量Dose_Target；基于所述探測器端的預曝光劑量Dose_T-PRE和目標劑量Dose_Target以及所述發生器端的曝光點EP_T-PRE計算探測器端的曝光點EP_T。

其中，可以通過如下公式計算所述探測器端的曝光點EP_T：

EP_T＝10lg(Dose_Target/Dose_T-PRE)+EP_T-PRE。

其中，用于X光機的自動曝光劑量調節方法還可以包括：

根據一器官程序設定曝光劑量Dose_OGP和放大系數Z；

其中，可以通過如下公式計算所述探測器端的目標劑量Dose_Target：

Dose_Target＝Dose_OGP*Z。

其中，用于X光機的自動曝光劑量調節方法還可以包括：

計算所述預曝光圖像上一感興趣區域的平均灰度值DEXI；

獲取所述探測器的靈敏度FD_sens；

其中，通過如下公式計算所述探測器端的預曝光劑量Dose_T-PRE：

Dose_T-PRE＝DEXI/FD_sens。

本發明另一方面提出了一種計算機存儲介質，所述計算機存儲介質中存儲有程序指令，所述程序指令能夠被運行來實現如上所述的任一種方法。