[發明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 201810101781.1 | 申請日: | 2018-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN108267852B | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發明(設計)人: | 王明超 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 滕一斌 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
本發明公開了一種顯示裝置及其制造方法,屬于顯示技術領域。顯示裝置包括:承載基板,以及陣列設置在承載基板上的多個顯示單元和多個控制單元,多個顯示單元與多個控制單元一一對應,每個顯示單元用于反射一種顏色的光;每個顯示單元包括:沿遠離承載基板方向依次平行設置的第一反射層和第二反射層,第一反射層包括沿遠離承載基板方向依次設置的形狀記憶層和反射膜層,第二反射層包括襯底基板以及設置在襯底基板上的半透半反膜層;其中,每個控制單元用于改變對應的顯示單元中的形狀記憶層的厚度以調節第一反射層與第二反射層的間隔。本發明解決了相關技術中IMOD器件的結構較復雜,制造工藝繁復的問題。本發明用于顯示裝置的制造。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別涉及一種顯示裝置及其制造方法。
背景技術
干涉儀調節器顯示(英文:Interferometric Modulator Display;簡稱:IMOD)技術是一種反射式顯示技術。IMOD顯示器包括多個顯示單元,每個顯示單元包括兩個平行的反射層,在光照射到兩個平行的反射層上時,基于光的干涉原理,當反射光的波長與兩個反射層的表面間距符合特定關系時,反射光會產生加強效果,因此,可以通過改變兩個反射層的表面間距調節反射光的顏色以及反射光的強度。
相關技術中,一般通過微機電系統(英文:Micro-Electro-Mechanical System;簡稱:MEMS)調節兩個反射層的間距,微機電系統一般包括多個齒輪、彈簧、懸臂和通道結構等多種微小的部件,通過懸臂承載兩個反射層中遠離出光面一側的反射層,并控制懸臂上下移動以調節兩個反射層之間的間距,達到調節反射光的顏色和強度的目的。
但是,由于微機電系統的結構較復雜,導致相關技術中的IMOD器件的結構較復雜,制造工藝繁復。
發明內容
本發明實施例提供了一種顯示裝置及其制造方法,可以解決相關技術中IMOD器件的結構較復雜,制造工藝繁復的問題。所述技術方案如下:
一方面,提供了一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:承載基板,以及陣列設置在所述承載基板上的多個顯示單元和多個控制單元,所述多個顯示單元與所述多個控制單元一一對應,每個所述顯示單元用于反射一種顏色的光;
每個所述顯示單元包括:沿遠離所述承載基板方向依次平行設置的第一反射層和第二反射層,所述第一反射層包括沿遠離所述承載基板方向依次設置的形狀記憶層和反射膜層,所述第二反射層包括襯底基板以及設置在所述襯底基板上的半透半反膜層;
其中,每個所述控制單元用于改變對應的顯示單元中的所述形狀記憶層的厚度以調節所述第一反射層與所述第二反射層的間隔。
可選的,所述第二反射層還包括色阻層,所述色阻層設置在所述襯底基板與所述半透半反膜層之間;
每個所述顯示單元中的色阻層的顏色與所述顯示單元的反射光顏色相同。
可選的,所述形狀記憶層由磁控形狀記憶材料制成,所述控制單元為磁場產生器;
所述控制單元設置在所述承載基板與所述第一反射層之間。
可選的,在所述顯示單元中,所述半透半反膜層的反射面與所述反射膜層的反射面之間的距離A滿足:
A=k×(λ/2)×c;
其中,k為正數,λ為所述顯示單元的反射光的波長,c為光速。
可選的,所述磁場產生器提供的磁場強度的范圍為0.4~0.9特斯拉。
可選的,所述多個顯示單元中的任意相鄰兩個顯示單元之間設置有格擋,所述格擋設置在所述承載基板上;
所述第一反射層和所述第二反射層固定設置在所述格擋上。
另一方面,提供了一種顯示裝置的制造方法,所述方法包括:
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