[發明專利]一種具有自發修復物理損傷功能的原子氧防護涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201810099720.6
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN108329502B
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 孫俊奇;王曉晗
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C08G83/00;C09D187/00;D06M15/37;C08L79/08;C08L81/02;D06M101/36
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司 22201
• 代理人: 劉世純;王恩遠

1.一種具有自發修復物理損傷功能的原子氧防護涂層的制備方法，其步驟如下：

(1)對傳統原子氧防護涂層構筑材料進行化學修飾，衍生出可產生超分子相互作用的化學基團，使其能夠自組裝形成兼具原子氧防護能力和自修復能力的超分子聚合物；所述的傳統原子氧防護涂層構筑材料為聚倍半硅氧烷、二氧化硅納米粒子、二氧化鈦納米粒子、蒙脫土中的一種或多種；衍生出可產生超分子相互作用的化學基團為脲基嘧啶酮、酰肼基、酰胺基、脲基、硫脲基、苯硼酸基、硼酸基、吡啶基、三氮唑基、咪唑基、羧基、氨基或磺酸基；

(2)對基底材料依次使用丙酮和去離子水超聲清洗1～30min，在真空烘箱中干燥0.5～12h；然后將基底材料在0.1～10M的硫酸溶液或0.1～10M的氫氧化鈉溶液中，在25～100℃條件下浸泡1～60min，最后用大量去離子水沖洗基底材料，晾干；

(3)將步驟(1)制備的超分子聚合物配置為濃度為0.1～10wt％的溶液或分散液、或直接將超分子聚合物本體涂覆在步驟(2)處理后的基底上，從而實現具有自發修復物理損傷功能的原子氧防護涂層的制備，制備的涂層厚度為20nm到50μm；所述的基底材料為聚醚醚酮、聚對苯二甲酰對苯二胺、聚酰亞胺、聚酯、聚苯硫醚或尼龍66。

2.如權利要求1所述的一種具有自發修復物理損傷功能的原子氧防護涂層的制備方法，其特征在于：步驟(3)所述的涂層的涂覆方式為浸涂、滴涂、旋涂、層層組裝、熱壓、狹縫擠壓或輥涂。