[發(fā)明專利]一種對準照明模塊、對準裝置、光刻機和對準方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810097054.2 | 申請日: | 2018-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN110095955A | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田湍;潘煉東;于大維;趙麗麗;杜榮;張成爽;范紀銘;周許超 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F9/00 | 分類號: | G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 對準 照明模塊 對準裝置 工作區(qū)域 光刻機 光源 轉(zhuǎn)折 驅(qū)動組件 同軸對準 照明組件 鏡頭 光線反射 鏡頭移動 曝光照明 視場 移開 遮擋 驅(qū)動 | ||
1.一種對準照明模塊,其特征在于,包括同軸對準照明組件以及驅(qū)動組件;
所述同軸對準照明組件包括至少兩個光源,以及與所述至少兩個光源對應(yīng)設(shè)置的光束轉(zhuǎn)折鏡頭,以將所述至少兩個光源發(fā)出的光線反射到待對準的工作區(qū)域;
所述驅(qū)動組件與所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭連接,用于在對準時驅(qū)動所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭移動到待對準的工作區(qū)域上方,以及在對準完成后將所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭從所述待對準的工作區(qū)域上方移開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對準照明模塊,其特征在于,所述同軸對準照明組件包括第一光源和第二光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對準照明模塊,其特征在于,所述驅(qū)動組件包括固定底座和位于所述固定底座一側(cè)的移動臺;
所述驅(qū)動組件還包括鏡頭轉(zhuǎn)接板,所述鏡頭轉(zhuǎn)接板固定于所述移動臺遠離所述固定底座一側(cè)表面,所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭固定在所述鏡頭轉(zhuǎn)接板上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對準照明模塊,其特征在于,所述同軸對準照明組件還包括第一照明光導(dǎo)、第一固定照明鏡頭、第二照明光導(dǎo)和第二固定照明鏡頭;所述第一照明光導(dǎo)以及所述第一固定照明鏡頭位于所述第一光源與所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭之間,所述第二照明光導(dǎo)以及所述第二固定照明鏡頭位于所述第二光源與所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對準照明模塊,其特征在于,所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭包括三棱鏡和/或反射鏡;所述三棱鏡的截面形狀為等腰直角三角形,所述三棱鏡的入射面與所述三棱鏡的出射面垂直。
6.一種對準裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-5任一項所述的對準照明模塊;
所述對準裝置還包括掩模臺、投影物鏡、工件臺、成像模塊和控制模塊,所述掩模臺位于所述對準照明模塊與所述工件臺之間,所述投影物鏡位于所述掩模臺與所述工件臺之間;所述控制模塊與驅(qū)動組件電連接,用于控制所述驅(qū)動組件移動光束轉(zhuǎn)折鏡頭;所述掩模臺用于承載待對準的掩模板,所述掩模板包括對準標記;
所述對準裝置還包括工件臺基準板,所述工件臺基準板裝載于所述工件臺上,所述工件臺基準板包括基準標記。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對準裝置,其特征在于,所述成像模塊包括同軸對準成像鏡頭和同軸對準成像傳感器,所述同軸對準成像鏡頭和同軸對準成像傳感器裝載于所述工件臺上;
所述同軸對準成像鏡頭位于所述工件臺基準板和所述同軸對準成像傳感器之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對準裝置,其特征在于,所述對準照明模塊包括同軸對準照明組件以及驅(qū)動組件;所述同軸對準照明組件包括第一光源和第二光源;
所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的同一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對準裝置,其特征在于,所述對準照明模塊包括光束轉(zhuǎn)折鏡頭,所述光束轉(zhuǎn)折鏡頭包括一個三棱鏡;所述三棱鏡的截面形狀為等腰直角三角形,所述三棱鏡的入射面與所述三棱鏡的出射面垂直,所述第一光源和所述第二光源的光軸垂直于所述三棱鏡的入射面。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對準裝置,其特征在于,所述對準照明模塊包括同軸對準照明組件以及驅(qū)動組件;所述同軸對準照明組件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相對兩側(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對準裝置,其特征在于,所述對準照明模塊包括同軸對準照明組件以及驅(qū)動組件;所述同軸對準照明組件包括第一光源和第二光源;所述第一光源和所述第二光源位于所述掩模板的相鄰兩側(cè)。
12.一種光刻機,其特征在于,包括權(quán)利要求6-11任一項所述的對準裝置,所述對準裝置包括對準照明模塊和工件臺;所述光刻機還包括曝光照明裝置,所述曝光照明裝置位于所述對準照明模塊遠離所述工件臺一側(cè)。
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