[發(fā)明專(zhuān)利]基板液處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810096859.5
• 申請(qǐng)日: 2018-01-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108376660B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田中幸二;鹽川俊行;山下浩司;益富裕之;小杉仁;稻田尊士;池田貴志;平山司
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種基板液處理裝置，其具備：

內(nèi)槽，其能夠貯存處理液，該內(nèi)槽具有上部開(kāi)口；

外槽，其設(shè)置于所述內(nèi)槽的外側(cè)；以及

蓋體，其能夠在封閉所述內(nèi)槽的上部開(kāi)口的封閉位置與使所述內(nèi)槽的上部開(kāi)口開(kāi)放的開(kāi)放位置之間移動(dòng)，

所述蓋體具有：

主體部，其在所述蓋體位于封閉位置時(shí)覆蓋所述內(nèi)槽的上部開(kāi)口；以及

飛沫遮蔽部，其連接到所述主體部，

在所述蓋體位于封閉位置時(shí)，所述飛沫遮蔽部從比與該飛沫遮蔽部相鄰的所述內(nèi)槽的側(cè)壁的上端高的高度位置延伸至比該側(cè)壁靠所述外槽那一側(cè)且比該側(cè)壁的上端低的位置，

其中，所述蓋體具有：第1蓋體部分，其覆蓋所述內(nèi)槽的所述上部開(kāi)口的第1部分；以及第2蓋體部分，其覆蓋所述內(nèi)槽的所述上部開(kāi)口的第2部分，所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分能夠以沿著水平方向延伸的各自的回轉(zhuǎn)軸線(xiàn)為中心進(jìn)行回轉(zhuǎn)，隨著其回轉(zhuǎn)，所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分在封閉位置與開(kāi)放位置之間移動(dòng)，所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分各自具有所述主體部和所述飛沫遮蔽部，

其中，所述蓋體還具有引導(dǎo)部，所述引導(dǎo)部將在所述第1蓋體部分位于封閉位置時(shí)附著到所述主體部的上表面的液體在所述第1蓋體部分位于開(kāi)放位置時(shí)向所述外槽的外側(cè)引導(dǎo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液處理裝置，其中，

所述外槽接受從所述內(nèi)槽溢流的處理液。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板液處理裝置，其中，

在所述蓋體位于封閉位置時(shí)，所述飛沫遮蔽部的下端位于所述內(nèi)槽的外側(cè)且所述外槽的內(nèi)側(cè)的水平方向位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液處理裝置，其中，

在所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分位于所述封閉位置時(shí)，所述第1蓋體部分的所述主體部的整體和所述第2蓋體部分的所述主體部的整體位于與從所述內(nèi)槽向所述外槽溢流時(shí)的所述內(nèi)槽內(nèi)的所述處理液的液面實(shí)質(zhì)上相同的高度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液處理裝置，其中，

在所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分位于所述封閉位置時(shí)，所述第1蓋體部分的所述主體部和所述第2蓋體部分的所述主體部?jī)A斜，所述第1蓋體部分的所述主體部的基端部分和所述第2蓋體部分的所述主體部的基端部分位于比從所述內(nèi)槽向所述外槽溢流時(shí)的所述處理液的所述內(nèi)槽內(nèi)的所述處理液的液面高的位置，所述第1蓋體部分的所述主體部的前端部分和所述第2蓋體部分的所述主體部的前端部分位于比所述液面低的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板液處理裝置，其中，

在所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分位于所述封閉位置時(shí)，在俯視時(shí)，所述第1蓋體部分的所述主體部的所述前端部分與所述第2蓋體部分的所述主體部的所述前端部分重疊。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板液處理裝置，其中，

在所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分位于所述封閉位置時(shí)，所述第1蓋體部分的所述主體部的所述前端部分和所述第2蓋體部分的所述主體部的所述前端部分分離。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板液處理裝置，其中，

在所述第1蓋體部分的上方和所述第2蓋體部分的上方還具有第1輔助蓋體和第2輔助蓋體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液處理裝置，其中，

所述第1蓋體部分的所述飛沫遮蔽部和所述第2蓋體部分的所述飛沫遮蔽部各自具有：第1邊部，其沿所述回轉(zhuǎn)軸線(xiàn)的方向延伸；第2邊部，其沿與所述回轉(zhuǎn)軸線(xiàn)正交的方向延伸；以及斜邊部，其相對(duì)于所述第1邊部和所述第2邊部形成角度地延伸且連接所述第1邊部的端部和所述第2邊部的端部。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板液處理裝置，其中，

所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分的下表面分別以隨著靠近所述第1邊部而變低的方式傾斜，且以隨著靠近所述第2邊部而變低的方式傾斜。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液處理裝置，其中，

所述基板液處理裝置還具有：基板支承構(gòu)件，其在所述內(nèi)槽內(nèi)從下方支承多張基板；以及基板按壓部，其設(shè)置于所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分中的至少任一者，

所述基板按壓部在所述第1蓋體部分和所述第2蓋體部分位于封閉位置時(shí)，與利用所述基板支承構(gòu)件支承的基板卡合，防止或抑制所述基板的向至少上方的位移。