[發明專利]顯示基板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201810095500.6
• 申請日: 2018-01-31
• 公開（公告）號: CN108255349B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 陳軍;陳啟程;李君;張由婷
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

1.一種顯示基板，其特征在于，開設有功能孔，形成所述功能孔的疊層結構包括遮光層和半透層，還包括消影層，所述消影層位于所述遮光層和所述半透層之間，且所述消影層至少覆蓋所述功能孔的開孔區域；

所述功能孔的疊層結構中，所述消影層還至少覆蓋所述遮光層位于所述功能孔的周邊區域；

所述消影層在所述功能孔的周邊區域的寬度范圍為10-30μm；

還包括保護層，所述保護層位于所述消影層和所述遮光層之間，所述保護層完全覆蓋所述功能孔的周邊區域；

所述功能孔的開孔邊緣處所述保護層的孔徑小于所述遮光層的孔徑，所述保護層相對延伸出所述遮光層正投影對應區域的外擴尺寸范圍為0-25μm；

所述半透層采用半透油墨形成；所述保護層采用透明介質。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述遮光層包括通孔，所述通孔的孔徑向靠近所述半透層的方向逐漸增大，覆蓋所述功能孔的開孔區域的所述消影層設置于所述通孔的內部。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述功能孔在包含孔中心軸所在平面的截面形狀為梯形。

4.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述消影層為單層或多層結構，采用氮氧化硅材料、氧化硅材料、氮化硅材料、氧化鈮材料中的至少一種形成。

5.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述消影層采用氮氧化硅材料，所述消影層的厚度范圍為折射率為1.6-1.7。

6.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述消影層采用五氧化二鈮材料，所述消影層的厚度范圍為折射率為1.8-2.0。

7.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述消影層采用物理氣相沉積工藝形成。

8.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述功能孔垂直于孔中心軸所在平面的截面形狀為圓形、方形、菱形中的至少一種。

9.根據權利要求1-8任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述遮光層采用包含碳黑、顏料、染料或補黑油墨中的至少一種不透明材料形成。

10.根據權利要求1-8任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括觸控屏，所述功能孔開設于所述觸控屏中；

或者，所述顯示基板包括玻璃蓋板，所述功能孔開設于所述玻璃蓋板上。

11.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1-10任一項所述的顯示基板。