[發(fā)明專利]一種OLED顯示面板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810088923.5
• 申請日: 2018-01-30
• 公開（公告）號(hào): CN108336094B
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張明;楊杰
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/12
• 分類號(hào): H01L27/12;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56
• 代理公司: 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44238
• 代理人: 潘中毅;熊賢卿

1.一種OLED顯示面板，其特征在于，包括：

承載基板；

形成在所述承載基板上的柔性基板；

形成在所述柔性基板上的TFT層；

形成在所述TFT層上的有機(jī)發(fā)光層；

形成在所述TFT層與所述有機(jī)發(fā)光層上的陰極；

所述柔性基板在對應(yīng)緊挨所述陰極的邊界之外的位置設(shè)有第一凹槽，所述TFT層在對應(yīng)所述第一凹槽的位置設(shè)有第二凹槽，所述第二凹槽用于收集在蒸鍍所述陰極時(shí)產(chǎn)生的微粒；

形成在所述TFT層、所述有機(jī)發(fā)光層和所述陰極上的封裝薄膜，所述第一凹槽和所述第二凹槽位于所述封裝薄膜的邊界在所述柔性基板上的投影與所述陰極的邊界在所述柔性基板上的投影之間，且所述第二凹槽在所述柔性基板上的投影與所述第一凹槽重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述第一凹槽為圍繞所述陰極的環(huán)狀凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度為所述柔性基板厚度的1/3～2/3。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述柔性基板厚度為1～50微米。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的OLED顯示面板，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽的寬度大于10微米。

6.一種OLED顯示面板的制作方法，包括：

提供承載基板；

在所述承載基板上形成柔性基板，并在所述柔性基板上的預(yù)定位置形成第一凹槽；

在所述柔性基板上制作TFT層，并在所述TFT層上對應(yīng)所述第一凹槽的位置形成第二凹槽；

在所述TFT層上制作有機(jī)發(fā)光層；

在所述TFT層與所述有機(jī)發(fā)光層上蒸鍍陰極，通過所述第二凹槽收集在蒸鍍所述陰極時(shí)產(chǎn)生的微粒，所述第一凹槽和所述第二凹槽位于緊挨所述陰極的邊界之外；

所述在所述柔性基板上的預(yù)定位置形成第一凹槽具體包括：

在所述柔性基板上涂布光阻材料形成光阻層；

對所述光阻層采用曝光顯影工藝進(jìn)行圖案化處理，形成間隔排列的多個(gè)第一光阻區(qū)域和多個(gè)第二光阻區(qū)域，所述第一光阻區(qū)域與所述第二光阻區(qū)域之間形成光阻間隔槽；

以所述間隔排列的多個(gè)所述第一光阻區(qū)域和多個(gè)所述第二光阻區(qū)域?yàn)檠谀＃瑢λ鋈嵝曰暹M(jìn)行刻蝕，在對應(yīng)所述光阻間隔槽的位置刻蝕形成所述第一凹槽；

所述制作方法還包括：

在所述TFT層、所述有機(jī)發(fā)光層和所述陰極上形成封裝薄膜，所述第一凹槽和所述第二凹槽位于所述封裝薄膜的邊界在所述柔性基板上的投影與所述陰極的邊界在所述柔性基板上的投影之間。