[發(fā)明專利]一種電極表面電流密度測量方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810088204.3 | 申請日： | 2018-01-30 |
| 公開（公告）號： | CN108181498A | 公開（公告）日： | 2018-06-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 鐵軍;趙仁濤;張志芳;鄭文堂;范洪濤 | 申請（專利權）人： | 北方工業(yè)大學 |
| 主分類號： | G01R19/08 | 分類號： | G01R19/08;C25C7/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人： | 王戈 |
| 地址： | 100000 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電極表面 電流密度測量 電流密度分布 電解電流效率 電流密度計算 產(chǎn)品成本 參數(shù)優(yōu)化 光纖環(huán) 測量 | ||
1.一種電極表面電流密度測量方法，其特征在于，所述方法包括：
將電極表面劃分為多個區(qū)域；
采用確定面積的光纖環(huán)測量各所述區(qū)域的電流大小；所述光纖環(huán)的直徑≤2cm，所述光纖環(huán)的面積≤3cm2，所述光纖環(huán)的測量精度≤1％；
根據(jù)所述光纖環(huán)的面積以及在各所述區(qū)域測量到的電流大小計算各所述區(qū)域的電流密度；
根據(jù)各所述區(qū)域的電流密度計算所述電極表面的電流密度分布。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，采用一個光纖環(huán)分別測量各所述區(qū)域的電流密度大小。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，采用多個光纖環(huán)同時測量各所述區(qū)域的電流密度大小。
4.根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于，所述測量各所述區(qū)域的電流密度大小，具體包括：所述光纖環(huán)按照設定方向移動，測量各所述區(qū)域的電流密度大小。
5.一種電極表面電流密度測量系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：
劃分模塊，用于將電極表面劃分為多個區(qū)域；
測量模塊，采用確定面積的光纖環(huán)在各所述區(qū)域測量電流大小；
第一密度計算模塊，用于根據(jù)所述光纖環(huán)的面積以及在各所述區(qū)域測量到的電流大小計算各所述區(qū)域的電流密度；
第二密度計算模塊，用于根據(jù)各所述區(qū)域的電流密度計算所述電極表面的電流密度分布。
6.根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述測量模塊為一個光纖環(huán)。
7.根據(jù)權利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述測量模塊包括多個光纖環(huán)。
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