[發明專利]一種單晶摻鎵太陽電池及其制備方法在審
| 申請號: | 201810085589.8 | 申請日: | 2018-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN108198877A | 公開(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發明(設計)人: | 李華;靳玉鵬 | 申請(專利權)人: | 泰州隆基樂葉光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0288 | 分類號: | H01L31/0288;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 張弘 |
| 地址: | 225314 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 減反射膜 鈍化膜 發射極 背面電極 導電材料 金屬化 單晶 電池 表面織構化 鈍化膜表面 發射極表面 熱處理過程 單晶硅 熱處理 光伏組件 正面電極 電極 背表面 焊接點 基底背 鋁電極 膜區域 銀電極 鈍化 硅基 基底 受光 穿透 摻雜 | ||
1.一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,由正面至背面依次包括:正面電極、正面減反射膜/鈍化膜(3)、發射極(2)、單晶摻鎵單晶摻鎵硅基底(1)和背面電極;所述的背面電極包括鋁電極(4)和背面銀電極(5)。
2.根據權利要求1所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的單晶摻鎵硅基底(1)中鎵元素的摻雜濃度為1×1013~1×1017個原子/立方厘米。
3.根據權利要求2所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的單晶摻鎵硅基底(1)還摻雜有硼元素,硼元素的摻雜濃度為1×1013~1×1017個原子/立方厘米。
4.根據權利要求1所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的正面電極通過局部穿透正面減反射膜/鈍化膜(3)或通過在正面減反射膜/鈍化膜(3)上的局部開膜區域與發射極(2)形成直接接觸。
5.根據權利要求1所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的鋁背場電極(4)設置在單晶摻鎵硅基底(1)的背面,背面銀電極(5)設置在鋁背場電極(4)上;鋁電極(4)和背面銀電極(5)均與單晶摻鎵硅基底(1)背面接觸。
6.根據權利要求5所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的鋁電極(4)和單晶摻鎵硅基底(1)之間包含一層摻雜成分為鋁的空穴摻雜層,空穴摻雜層的厚度為1~15um。
7.根據權利要求6所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的空穴摻雜層中還摻雜有硼,硼元素摻雜濃度為5×1016~1×1021個原子/立方厘米。
8.根據權利要求6所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的空穴摻雜層和鋁電極(4)之間還包括一層鋁硅合金層,鋁硅合金層厚度為1~5um。
9.根據權利要求1所述的一種單晶摻鎵太陽電池,其特征在于,所述的正面減反射膜/鈍化膜(3)為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁和碳化硅薄膜中的一種或多種疊層構成;正面減反射膜/鈍化膜(3)的折射率為1.5~2.5,厚度50~100nm。
10.一種權利要求1至9任意一項所述的單晶摻鎵太陽電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)對單晶摻鎵硅基底(1)進行表面織構化及清洗;
2)在單晶摻鎵硅基底(1)正面進行制備發射極(2);
3)對單晶摻鎵硅基底(1)進行邊緣絕緣處理;
4)對單晶摻鎵硅基底(1)的發射極(2)進行正面減反射膜/鈍化膜(3)制備;
5)在對單晶摻鎵硅基底(1)正面、背面進行導電漿料圖形化涂布;
6)進行金屬化熱處理過程分別制備正面電極和背面電極。
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





