[發(fā)明專利]一種棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料的原位制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810085248.0
• 申請(qǐng)日: 2018-01-29
• 公開（公告）號(hào): CN108315730B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樊玉欠;單喜璐;王璐萌;黃葦葦;袁朝暉;王靖宇;范愉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 燕山大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C22/60
• 分類號(hào): C23C22/60
• 代理公司: 秦皇島一誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 13116
• 代理人: 續(xù)京沙

1.一種棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料的原位制備方法，其特征在于：它包括以下步驟：

(1)將金屬鎳基體清洗除塵、除銹、除油以獲得清潔的鎳表面；

(2)配制堿性電解液，主要原料為金屬堿化合物，輔助原料為堿金屬硫化物；

(3)將電解液放入反應(yīng)釜中，同時(shí)將干凈的鎳基體浸入電解液中；下一步，將反應(yīng)釜置于馬弗爐中在120-250℃進(jìn)行水熱反應(yīng)10-50小時(shí)，使得金屬鎳表面發(fā)生硫化原位生長(zhǎng)反應(yīng)；

(4)將水熱后的鎳基體取出、清洗干凈并干燥，即可獲得棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料的原位制備方法，其特征在于：所述鎳基體是指平板鎳或者多孔鎳基體。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料的原位制備方法，其特征在于：所述堿性電解液中，金屬堿化合物為KOH和NaOH中的一種或兩種，OH^-濃度為1-6mol/L，兩種時(shí)KOH的質(zhì)量百分比為10-30％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種棱柱狀硫化鎳陣列薄膜材料的原位制備方法，其特征在于：所述堿金屬硫化物為L(zhǎng)i₂S和Na₂S中的一種或兩種，元素S濃度為0.1-1mol/L，兩種時(shí)Li₂S的質(zhì)量百分比為10-30％。