[發(fā)明專利]一種可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810084809.5
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN108173004B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設計）人: 楊州軍;謝先立;周豪;潘曉明;周靜
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: H01Q15/02
• 分類號: H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q19/08
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 廖盈春;李智

1.一種可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，包括：微波源，以及位于微波源一側(cè)依次排列的擴束雙曲面透鏡、重構(gòu)超環(huán)面透鏡、準直超環(huán)面透鏡；

所述微波源用于發(fā)射點微波束；

所述擴束雙曲面透鏡靠近微波源一側(cè)的E向和H向皆為雙曲線，遠離微波源一側(cè)為平面，用于將點微波束進行擴束；其中，E向為側(cè)視投影面，H向俯視投影面；

所述重構(gòu)超環(huán)面透鏡靠近擴束雙曲面透鏡一側(cè)僅E向為雙曲線，另一側(cè)為平面，用于使擴束后的點微波束豎直方向的能量進行重新分布，將能量的高斯分布變成均勻線分布，所述重構(gòu)超環(huán)面透鏡E向雙曲線的曲率半徑小于擴束雙曲面透鏡E向雙曲線的曲率半徑；

所述準直超環(huán)面透鏡靠近重構(gòu)超環(huán)面透鏡一側(cè)的E向為雙曲線，H向彎曲，用于將E向發(fā)散的線分布微波波束進行準直收束，另一側(cè)為普通柱面，使H向微波波束寬度保持不變，得到微波均勻線源。

2.根據(jù)權利要求1所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，還包括：接收面板；

所述接收面板位于所述準直超環(huán)面透鏡遠離重構(gòu)超環(huán)面透鏡的一側(cè)，用于標注微波均勻線源的生成位置、大小及能量分布情況。

3.根據(jù)權利要求2所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，還包括：精密電移動平臺；

所述精密電移動平臺用于通過改變微波源與擴束雙曲面透鏡的距離，使得可以根據(jù)微波頻率變化的需求，保持接收面板接收到的線微波束能量分布基本不變。

4.根據(jù)權利要求3所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，在點微波頻率75GHz到140GHz范圍內(nèi)，精密電移動平臺行進距離在100mm左右，可保持接收面板接收到的線微波束能量分布基本不變。

5.根據(jù)權利要求1所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，擴束雙曲面透鏡E向和H向雙曲線的二次曲面常數(shù)為-2.518，曲率半徑為151mm，擴束雙曲面透鏡的半高半寬皆為57mm，中心厚度為20mm，距離重構(gòu)超環(huán)面透鏡的距離為20mm。

6.根據(jù)權利要求1所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，所述重構(gòu)超環(huán)面透鏡E向雙曲線的曲面常數(shù)為-1.6，曲率半徑為25mm，重構(gòu)超環(huán)面透鏡的半高半寬皆為80mm，中心厚度為70mm，距離準直超環(huán)面透鏡的距離為300mm。

7.根據(jù)權利要求1所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，所述準直超環(huán)面透鏡E向雙曲線的二次曲面常數(shù)為-1.5，E向曲率半徑為220mm，H向彎曲，E向曲率半徑200mm，準直超環(huán)面透鏡半高為230mm，半寬為70mm，中心厚度為120mm。

8.根據(jù)權利要求2所述的可調(diào)節(jié)抗干擾微波均勻線源生成系統(tǒng)，其特征在于，所述接收面板為半高300mm，半寬50mm的平板，距離準直超環(huán)面透鏡的及距離為200mm。