[發(fā)明專利]金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置及其加工參數(shù)調(diào)試方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810084781.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108204988A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 殷華林;高宗生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇泓麒智能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/94 | 分類號(hào): | G01N21/94;G01B11/08 |
| 代理公司: | 北京市金棟律師事務(wù)所 11425 | 代理人: | 岑海梅 |
| 地址: | 210000 江蘇省南京市江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金剛線 質(zhì)量參數(shù) 背光光源 側(cè)光光源 加工參數(shù) 檢測(cè)裝置 檢測(cè)光源 測(cè)光 調(diào)試 生產(chǎn)線設(shè)備 垂直照射 傾斜照射 全面性 客戶 真實(shí)性 照射 采集 匯聚 檢測(cè) 加工 | ||
本發(fā)明屬于待測(cè)金剛線加工領(lǐng)域,具體涉及金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置及其加工參數(shù)調(diào)試方法。包括檢測(cè)光源和CCD相機(jī),檢測(cè)光源包括分別設(shè)置在待測(cè)金剛線兩側(cè)的背光光源和側(cè)光光源,背光光源垂直照射待測(cè)金剛線,側(cè)光光源傾斜照射待測(cè)金剛線,背光光源和側(cè)光光源的照射匯聚處為待測(cè)光區(qū),CCD相機(jī)采集位于待測(cè)光區(qū)中待測(cè)金剛線的質(zhì)量參數(shù)。本技術(shù)方案中,在現(xiàn)有的金剛線生產(chǎn)線設(shè)備上增加金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置,不僅成本較低,能夠提高檢測(cè)到的金剛線質(zhì)量參數(shù)的真實(shí)性和全面性,并且通過(guò)上述質(zhì)量參數(shù)能夠?qū)崟r(shí)有效對(duì)生產(chǎn)線的加工參數(shù)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)整,以達(dá)到金剛線產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和可靠性,滿足客戶的需求,降低客戶的損失。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于待測(cè)金剛線加工領(lǐng)域,具體涉及金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置及其加工參數(shù)調(diào)試方法。
背景技術(shù)
目前金剛線生產(chǎn)在線檢測(cè)的各質(zhì)量參數(shù)只能作為生產(chǎn)過(guò)程中的參考數(shù)據(jù),也不能作為質(zhì)量報(bào)告提供給用戶,且只能對(duì)金剛線進(jìn)行單側(cè)面檢測(cè),數(shù)據(jù)可靠性也較差,采用雙面檢測(cè)則需要2套檢測(cè)系統(tǒng),大大增加成本;在數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性方面,傳統(tǒng)的視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)采用單純的側(cè)照光方式,對(duì)表面的顆粒和線直徑檢測(cè)時(shí),明顯與真實(shí)性數(shù)據(jù)有較大差距,不能作為生產(chǎn)指導(dǎo)工藝數(shù)據(jù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是:提供金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置及其加工參數(shù)調(diào)試方法,用以克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
本發(fā)明所采用的技術(shù)解決方案是:
金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置,包括底座,以及固定在底座上的側(cè)光光源和CCD相機(jī),其特殊之處在于:還包括固定在所述底座上的背光光源,所述背光光源設(shè)置在待測(cè)金剛線一側(cè),垂直照射待測(cè)金剛線,背光光源和側(cè)光光源的照射匯聚處為待測(cè)光區(qū),CCD相機(jī)采集位于待測(cè)光區(qū)中待測(cè)金剛線的質(zhì)量參數(shù)。
進(jìn)一步的,所述質(zhì)量參數(shù)包括待測(cè)金剛線直徑和表面顆粒分布密度。
進(jìn)一步的,所述背光光源、側(cè)光光源和CCD相機(jī)分別通過(guò)可調(diào)支架固定在底座上。
進(jìn)一步的,所述背光光源的調(diào)試支架上固定有棱鏡組。
進(jìn)一步的,所述底座上設(shè)置過(guò)線輪組,待測(cè)金剛線纏繞在過(guò)線輪組之間,并呈拉直狀態(tài)。
進(jìn)一步的,所述側(cè)光光源包括兩條LED光纖。
本發(fā)明還提供金剛線加工參數(shù)調(diào)試方法,其特殊之處在于:包括以下步驟:
對(duì)待測(cè)金剛線進(jìn)行垂直照射,實(shí)時(shí)采集待測(cè)金剛線直徑參數(shù);
對(duì)待測(cè)金剛線進(jìn)行傾斜照射,實(shí)時(shí)采集待測(cè)金剛線表面顆粒分布密度參數(shù);
根據(jù)采集到的待測(cè)金剛線直徑參數(shù)和表面顆粒分布密度參數(shù),生成圖像,調(diào)試待測(cè)金剛線加工參數(shù),包括:電鍍液中金剛砂濃度,鍍鎳電流強(qiáng)度、酸堿清洗液溫度和產(chǎn)線速度。
進(jìn)一步的,具體的,實(shí)時(shí)采集到的待測(cè)金剛線直徑參數(shù)逐漸減小時(shí),則提高鍍鎳電流強(qiáng)度;實(shí)時(shí)采集到的待測(cè)金剛線直徑參數(shù)逐漸增大時(shí),則降低鍍鎳電流強(qiáng)度。
進(jìn)一步的,具體的,實(shí)時(shí)采集到的待測(cè)金剛線表面顆粒分布密度參數(shù)低于預(yù)定閾值時(shí),則提高電鍍液中金剛砂濃度,降低產(chǎn)線速度;實(shí)時(shí)采集到的待測(cè)金剛線表面顆粒分布密度參數(shù)高于預(yù)定閾值時(shí),則降低電鍍液中金剛砂濃度,提高產(chǎn)線速度。
進(jìn)一步的,具體的,所述圖像中顯示,當(dāng)待測(cè)金剛線的表面分布有臟污、細(xì)微毛刺時(shí),提高酸堿清洗液溫度,當(dāng)待測(cè)金剛線的表面均勻時(shí),降低酸堿清洗液溫度。
本發(fā)明的有益效果是:本技術(shù)方案中,在現(xiàn)有的金剛線生產(chǎn)線設(shè)備上增加金剛線質(zhì)量參數(shù)檢測(cè)裝置,不僅成本較低,能夠提高檢測(cè)到的金剛線質(zhì)量參數(shù)的真實(shí)性和全面性,并且通過(guò)上述質(zhì)量參數(shù)能夠?qū)崟r(shí)有效對(duì)生產(chǎn)線的加工參數(shù)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)整,以達(dá)到金剛線產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和可靠性,滿足客戶的需求,降低客戶的損失。
附圖說(shuō)明
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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