[發明專利]一種陣列基板、電致發光顯示面板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201810084474.7
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN108281470B
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 王湘成;牛晶華
• 申請（專利權）人: 上海天馬有機發光顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板，包括：

襯底基板；

位于所述襯底基板上且用于限定出呈陣列排布的多個像素區域的像素限定結構；所述像素限定結構面向所述像素區域的側面為傾斜側面；

所述陣列基板還包括：至少設置在所述像素限定結構的傾斜側面上且具有反射功能和散射功能的光調節結構；

其中，所述光調節結構遠離所述像素限定結構一側的表面具有多個凸起；

且所述光調節結構包括：金屬層，以及設置在所述金屬層遠離所述像素限定結構一側的非金屬層；所述凸起位于所述非金屬層遠離所述金屬層一側的表面。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層由金屬銀或金屬鋁構成。

3.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起在垂直于所述襯底基板表面方向上的橫截面的形狀為半圓形、半橢圓形、三角形、四邊形和多邊形中的一種或組合。

4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述光調節結構中的金屬層的厚度至少為50納米。

5.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述非金屬層由聚酰亞胺或氮化硅構成。

6.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述非金屬層的厚度在5納米至100納米之間。

7.如權利要求1-6任一項所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：設置在各所述像素區域內的發光層，以及覆蓋各所述發光層和所述像素限定結構的陰極；

所述陰極與至少設置于所述像素限定結構的傾斜側面之上的所述光調節結構直接接觸。

8.一種電致發光顯示面板，其特征在于，包括：如權利要求1-7任一項所述的陣列基板，以及與所述陣列基板相對而置的封裝基板。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括：如權利要求8所述的電致發光顯示面板。