[發明專利]一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體及其制備方法有效
| 申請號： | 201810081426.2 | 申請日： | 2018-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN108493454B | 公開（公告）日： | 2021-01-01 |
| 發明（設計）人： | 謝科予;沈超;田秀麗;張坤;黃繼宏;張丁 | 申請（專利權）人： | 湖南航盛新能源材料有限公司 |
| 主分類號： | H01M4/66 | 分類號： | H01M4/66;H01M10/052 |
| 代理公司： | 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215 | 代理人： | 張明 |
| 地址： | 410000 湖南省長沙*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 過渡 金屬 硫化物 修飾 流體 及其 制備 方法 | ||
1.一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：
(1)原位沉積：利用原位沉積技術在銅箔上原位沉積過渡金屬，于銅箔上形成一層過渡金屬層；所述過渡金屬為鉬、鎢、鈷、鎳和釩中的一種；
(2)原位生成：在所述過渡金屬層上復合一層單質硫后，作為工作電極組裝電池，利用電壓循環活化使過渡金屬與單質硫反應形成過渡金屬硫化物后，即得到所述的一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體；
所述步驟(1)之前還包括步驟S1、清洗：依次用丙酮、乙醇和去離子水清洗銅箔表面，然后真空干燥；所述步驟S1中，真空干燥的溫度為60-100℃，干燥時間為10-14h；
所述步驟(1)中，原位沉積的時間為1-12h，原位沉積的過渡金屬層厚度為10-800nm；
所述步驟(2)中，過渡金屬硫化物的厚度為20nm-2μm；所述步驟(2)中，電壓循環活化的活化電壓為0.1-5V，活化電流為10μA-100mA，活化時間1-20h。
2.根據權利要求1所述的一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體的制備方法，其特征在于：所述過渡金屬為鉬。
3.根據權利要求1所述的一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體的制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中，組裝電池采用的電解液由鋰鹽和溶劑組成，所述鋰鹽為LiPF6、LiFSI、LiTFSI、LiNO3中的至少一種，鋰鹽的濃度為0.1-10mol/L，所述溶劑為EC、DMC和EMC中的至少一種。
4.一種過渡金屬硫化物修飾的銅集流體，其特征在于：所述過渡金屬硫化物修飾的銅集流體由權利要求1-3任意一項所述的制備方法制得。
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