[發明專利]吸附機構、清洗裝置、化學發光檢測儀及清洗方法

有效

• 申請號: 201810073739.3
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN110082291B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 胡毅;班定平;張譚;易萬貫;陳為;尹力;朱亮
• 申請（專利權）人: 深圳市新產業生物醫學工程股份有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;B08B3/10
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 石佩

1.一種磁珠復合物吸附機構，用于吸附繞中心軸線公轉的反應杯中的磁珠復合物，其特征在于，所述磁珠復合物吸附機構設置有供所述反應杯進出的輸入工位、主輸出工位和副輸出工位，所述副輸出工位與輸入工位處于同一位置或者位于所述輸入工位和所述主輸出工位之間，所述磁珠復合物吸附機構包括底座及固定在所述底座上的底吸組件和多個側吸組件，所述多個側吸組件環繞所述中心軸線設置且位于所述輸入工位和主輸出工位之間，所述底吸組件位于所述主輸出工位和副輸出工位之間，相鄰兩個所述側吸組件相互間隔形成供所述反應杯運行的通道；

其中，當所述反應杯公轉時，多個所述側吸組件使所述磁珠復合物交替吸附在所述反應杯相對設置的第一內側面和第二內側面上，所述底吸組件位于所述反應杯的公轉軌跡的底部，所述底吸組件用于將所述磁珠復合物吸附在廢液全部抽取完畢后的所述反應杯的底面上；

沿所述反應杯公轉方向，多個所述側吸組件使得所述磁珠復合物在所述反應杯內側面的吸附位置逐漸挨近所述反應杯底面，最靠近所述主輸出工位的所述側吸組件上的磁性體相對所述底座的距離最小；所述底吸組件和所述側吸組件之間的間隙形成所述主輸出工位或所述副輸出工位，所述副輸出工位相對所述主輸出工位更靠近所述輸入工位；所述底吸組件的一端與所述主輸出工位對應，所述底吸組件的另一端與所述副輸出工位對應；

所述多個側吸組件交替設置于所述反應杯的公轉軌跡的內側和外側，所述多個側吸組件和所述底吸組件的磁吸面朝向所述反應杯的公轉軌跡，相鄰兩個側吸組件沿所述反應杯的公轉軌跡的周向相互間隔。

2.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，每一所述側吸組件包括沿所述反應杯公轉軌跡方向排布的第一對磁鐵和第二對磁鐵，所述第二對磁鐵位于每一所述側吸組件沿所述反應杯公轉軌跡方向的尾部，所述第一對磁鐵的磁吸面積大于所述第二對磁鐵的磁吸面積，使得吸附在所述反應杯的第一內側面或第二內側面的磁珠復合物包括對應的第一聚攏狀態和第二聚攏狀態，所述第一聚攏狀態的緊密程度小于所述第二聚攏狀態的緊密程度。

3.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，靠近所述主輸出工位的側吸組件包括第一對磁鐵、第二對磁鐵和第三對磁鐵，所述第三對磁鐵位于所述側吸組件沿所述反應杯公轉軌跡方向的尾部，所述第一對磁鐵、第二對磁鐵和第三對磁鐵的磁吸面積依次縮小，使得吸附在所述反應杯的第一內側面或第二內側面的磁珠復合物包括對應的第一聚攏狀態、第二聚攏狀態和第三聚攏狀態，所述第一聚攏狀態、第二聚攏狀態和第三聚攏狀態的緊密程度依次增大。

4.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述側吸組件的數量為五個。

5.根據權利要求1所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述多個側吸組件沿所述反應杯轉動方向依次首尾相對設置，所述側吸組件包括帶有與所述中心軸線同軸的圓弧形安裝面的安裝體，及設置在所述圓弧形安裝面上并與所述反應杯相對的若干磁性體；分布在所述輸入工位與主輸出工位之間的任意相鄰兩個所述側吸組件的圓弧形安裝面位于所述反應杯運動軌跡的異側、并相對所述中心軸線的朝向相反。

6.根據權利要求5所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，包括四個側吸組件和一個底吸組件，所述側吸組件與所述反應杯的側壁相對應，所述底吸組件與所述反應杯的底壁相對應。

7.根據權利要求6所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，所述四個側吸組件包括沿所述反應杯轉動方向依次首尾相對設置的第一側吸組件、第二側吸組件、第三側吸組件和第四側吸組件，所述第一側吸組件上靠近所述底吸組件的一端與所述輸入工位對應，所述第四側吸組件上靠近所述底吸組件的一端與所述主輸出工位對應，所述底吸組件上靠近所述第一側吸組件的一端與所述副輸出工位對應，所述第一側吸組件上的所述圓弧形安裝面面對所述中心軸線。

8.根據權利要求6所述的磁珠復合物吸附機構，其特征在于，任意不相鄰的兩個所述側吸組件上的所述圓弧形安裝面到所述中心軸線的距離相等。