[發(fā)明專利]基于非晶SmCo的磁電耦合異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810072164.3 | 申請日: | 2018-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN108251799B | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁文會;胡鳳霞;熊杰夫;李佳;喬凱明;劉瑤;匡皓;王晶;孫繼榮;沈保根 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院物理研究所 |
| 主分類號: | C23C14/16 | 分類號: | C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35;H01L43/10;H01L43/12 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭廣迅;趙巖 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 smco 磁電 耦合 異質(zhì)結(jié) 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明提供一種具有面內(nèi)磁各向異性和磁電耦合性質(zhì)的異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)及其制備方法和應(yīng)用,所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)依次包括:(011)取向的單晶襯底、非晶SmCo膜層和Cr覆蓋層。由(011)取向的單晶襯底所提供的面內(nèi)各向異性應(yīng)力場可誘導(dǎo)非晶SmCo薄膜產(chǎn)生面各向異性。其中,當(dāng)襯底為PMN?PT時,異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)具體來說是一種磁電耦合異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu),本發(fā)明的磁電耦合異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)是一種全新的以非晶永磁SmCo合金做為鐵磁層的多鐵復(fù)合物異質(zhì)結(jié)。由于兼具良好面各向異性和非易失性各向異性磁記憶效應(yīng),該異質(zhì)結(jié)在磁存儲、磁記錄、高靈敏磁電弱信號探測器、磁能積可調(diào)的微型永磁材料,傳感器、邏輯器件和電控磁記錄等方面都有潛在的應(yīng)用價值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及基于非晶SmCo的磁電耦合異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)及其制備方法和應(yīng)用,具體涉及一種具有面各向異性和非易失性磁記憶效應(yīng)的非晶SmCo薄膜及其制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
非晶SmCo薄膜在信息存儲方面具有非常大的應(yīng)用潛能,其高矯頑力對于高存儲密度的實現(xiàn)至關(guān)重要,而非晶態(tài)中較少的晶界又保證了較高的信噪比,與此同時,光滑的薄膜表面使得接觸式磁記錄成為可能,除此之外,具有面各向異性的非晶SmCo薄膜使得磁記錄的發(fā)展更加迅猛。人們對非晶SmCo薄膜的疇結(jié)構(gòu)、磁各向異性以及磁致伸縮等性質(zhì)進行了廣泛的研究。但到目前為止,非晶SmCo薄膜的面各向異性都是由生長過程中平行于膜面的外加磁場誘導(dǎo)產(chǎn)生的,易磁化軸沿著外磁場方向,而且這些薄膜大多生長在多晶或者非晶襯底上,尚沒有報道由各向異性的單晶襯底提供的應(yīng)力場誘導(dǎo)產(chǎn)生的非晶SmCo薄膜的面各向異性,而此種材料對信息存儲器的發(fā)展來說,無疑是非常重要的。
磁電耦合或者逆磁電耦合效應(yīng)是指在某一種材料中加磁場導(dǎo)致物質(zhì)的電極化狀態(tài)發(fā)生變化或者加電場導(dǎo)致物質(zhì)的磁化狀態(tài)發(fā)生變化,也即在同一種材料中實現(xiàn)磁性和電性的耦合。由于從傳統(tǒng)的鐵電性和鐵磁性的實現(xiàn)機理來說,兩者在同一種材料中同時實現(xiàn)以及產(chǎn)生耦合效果是非常困難的。現(xiàn)有的具有磁電耦合的單相材料包括BiFeO3、Cr2O3、TbMnO3、YMnO3和MnWO4等。這類材料種類比較少,鐵電性和鐵磁性都比較弱,并且其耦合作用也比較弱。
近些年來,一類研究比較廣泛的磁電耦合復(fù)合材料體系引起人們的極大關(guān)注,這類材料簡單的將鐵電性和鐵磁性的材料復(fù)合在一起,其形式包括0-3型顆粒復(fù)合結(jié)構(gòu),1-3型柱狀復(fù)合結(jié)構(gòu)以及2-2型層狀復(fù)合結(jié)構(gòu)等。但是這些復(fù)合形式都有各自的缺點,比如,0-3型顆粒復(fù)合時,由于界面之間的相互滲透作用,鐵電材料的絕緣性下降,從而導(dǎo)致電荷泄露問題。
一種比較廣泛的復(fù)合方式,即薄膜的生長,這種復(fù)合方式的優(yōu)點在于,通過一些日趨成熟的薄膜生長技術(shù),比如磁控濺射、分子束外延以及脈沖激光沉積技術(shù)將不同的相(鐵電相和鐵磁相)直接以原子級別的結(jié)合方式結(jié)合起來,從而將鐵電材料和鐵磁材料復(fù)合起來。在已有的報道中,具有代表性的壓電材料包括PbTiO3、BaTiO3、PMN-PT等,而鐵磁性材料則包括具有相分離效應(yīng)的錳氧化物L(fēng)aCaMnO3和LaSrMnO3,以及軟磁金屬單質(zhì)和合金,包括Fe、Ni、Co、FeCoB等,以及Fe3O4、CoFe2O4等鐵酸鹽。通過將這兩類材料用各種不同的手段結(jié)合起來,可以實現(xiàn)在不同溫度區(qū)域?qū)τ阼F磁性材料的矯頑力,飽和磁化強度,以及剩磁等各種磁性參數(shù)的調(diào)控。
在已有的報道中,電場對于磁性的調(diào)控多數(shù)屬于線性調(diào)控,是“易失的”,不具有記憶效應(yīng),即當(dāng)施加在樣品上的電場撤回到零時,由于應(yīng)變隨電場的撤銷而消失,從而導(dǎo)致磁性薄膜對電場的響應(yīng)不能夠穩(wěn)定在電場作用下的狀態(tài),而是很快回到了未加電場時的初始狀態(tài),這對應(yīng)用是很不利的。磁存儲需要具有非易失性,也就是具有記憶效應(yīng),寫入或者讀取數(shù)據(jù)后能夠繼續(xù)保留數(shù)據(jù),即撤掉電場后仍能保持在調(diào)控后的狀態(tài),所以具有非易失性磁記憶效應(yīng)的材料是才能夠更好地被應(yīng)用于磁存儲領(lǐng)域。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





