[發明專利]一鍵式影像測量儀在審
| 申請號: | 201810071253.6 | 申請日: | 2018-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN107990829A | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 胡紫林 | 申請(專利權)人: | 聿達博曼精密工業(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00 |
| 代理公司: | 蘇州六一專利代理事務所(普通合伙)32314 | 代理人: | 顧傳虎 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市昆山市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一鍵式 影像 測量儀 | ||
技術領域
本發明涉及一鍵式影像測量儀。
背景技術
產品在加工完畢后需要進行檢測,目前的檢測手段分別有投影儀、卡尺、影像測量儀、工具顯微鏡,投影儀在測量產品時需要手搖動坐標臺;測量過程費時費力,卡尺只能簡單的手動測量一些長度、深度、外徑等簡單尺寸,影像測量儀在測量產品時只能進行首件檢測,檢測效率低;無法進行批量檢測,工具顯微鏡視線對準有誤差;而且在測量時焦距需要頻繁調節,使得檢測效率低下,所有的檢測手段整體上不能滿足測量要求與進度。
發明內容
本發明針對現有技術的不足,提供了一種解決上述問題的一鍵式影像測量儀。
為了解決上述技術問題,本發明通過下述技術方案得以解決:
一鍵式影像測量儀,包括測量基座,固定連接在測量基座上的測量支撐架和平放安裝在測量基座的頂端上測量平臺,所述測量基座的頂端為水平面,測量支撐架固結在測量基座的水平面上,測量支撐架的下側部分占據了測量基座水平面的一部分,測量平臺配合固定在測量基座水平面的另一部分上,測量支撐架的下側部分的厚度為上側部分的一半,測量支撐架的下側部分與測量基座的水平面形成一個空腔結構,測量平臺置于空腔結構的底端上。
上述技術方案中,所述測量基座包括電控箱、腳架、按鈕連接板、控制按鈕,電控箱固定形成在測量基座的一側面上,腳架固定安裝在測量基座的底端平面上,腳架為四個,每一腳架置于測量基座的底端邊框角落內,按鈕連接板固定形成在測量基座正向側面的頂端上,按鈕連接板為矩形板構造,控制按鈕安裝在按鈕連接板上。
上述技術方案中,所述控制按鈕包括調試鍵、開始鍵、停止鍵,調試鍵安裝在按鈕連接板上的一側;停止鍵安裝在按鈕連接板上的另一側,開始鍵置于調試鍵和停止鍵之間,開始鍵的外形大于調試鍵和停止鍵。
上述技術方案中,所述測量支撐架包括連接板、CCD相機、遠心鏡頭,連接板固定安裝在測量支撐架的內側壁面上,連接板為垂直彎曲結構,連接板包括橫向連接板和縱向連接板,橫向連接板為兩塊,每一橫向連接板的邊緣連接線與縱向連接板對應的邊緣連接線形成在一起,CCD相機固定安裝在兩個橫向連接板和一個縱向連接板形成的半包腔體內,遠心鏡頭垂直固定連接在縱向連接板的另一側壁面上。
上述技術方案中,所述CCD相機包括輸出端和采光區,輸出端開設在CCD相機的頂端側面上,輸出端通過數據連接線和影像測量儀配套的處理器連接,采光區為矩形平面結構,采光區位于CCD相機的正向側面上且置于輸出端的下方。
上述技術方案中,所述遠心鏡頭包括鏡頭固定架、圖像縮小裝置、自動調焦裝置、鏡片,鏡頭固定架固定連接在連接板的縱向連接板上,鏡頭固定架為兩個,每一鏡頭固定架上形成有圓形通孔,兩個鏡頭固定架的通孔在同一軸線上,圖像縮小裝置固定連接在一個鏡頭固定架上,圖像縮小裝置通過數據線連接到CCD相機內,鏡頭固定架的底端與自動調焦裝置的頂端安裝在一起,自動調焦裝置的底端與鏡片安裝在一起,鏡片固定連接在另一個鏡頭固定架上。
上述技術方案中,所述測量平臺為平板狀結構,測量平臺的表面采用抗氧化處理,具體為測量平臺放在800℃的亞硝酸鈉和硝酸鈉的溶液中加熱,加熱并保溫20min,測量平臺的表層形成厚度為0.5-1.5微米的抗氧化薄膜。
有益效果:本發明與現有技術相比較,其具有以下有益效果:
本發明一鍵式影像測量儀整體結構簡單,且不需要位移傳感器光柵尺,在測量過程中也不需要移動工作臺,所以儀器的穩定性能更好,僅通過測量支撐架的CCD相機和遠心鏡頭采集產品輪廓影像,之后處理器的繪圖測量軟件能在2到5秒內完成100個以內的尺寸的繪圖、測量及公差的評價,效率是傳統二次元影像測量儀的數十倍。
附圖說明
圖1為一鍵式影像測量儀的結構圖。
圖2為一鍵式影像測量儀的測量支撐架的內部結構圖。
具體實施方式
參閱圖1~2,一鍵式影像測量儀,包括測量基座1,固定連接在測量基座1上的測量支撐架2和平放安裝在測量基座1的頂端上測量平臺3,所述測量基座1的頂端為水平面,測量支撐架2固結在測量基座1的水平面上,測量支撐架2的下側部分占據了測量基座1水平面的一部分,測量平臺3配合固定在測量基座1水平面的另一部分上測量支撐架2的下側部分的厚度為上側部分的一半,測量支撐架2的下側部分與測量基座1的水平面形成一個空腔結構,測量平臺3置于空腔結構的底端上。
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