[發明專利]一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝

在審

• 申請號: 201810070243.0
• 申請日: 2018-01-24
• 公開（公告）號: CN108203811A
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 王超楠;羅笙蕓;張朝珍;魯聽;楊吟野;任達森;楊林
• 申請（專利權）人: 貴州民族大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/12;C23C14/08
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所 52100
• 代理人: 商小川

1.一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：靶材為以高分子聚合物與無機材料或者高分子聚合物與無機氧化物共混的復合材料，所述的高分子聚合物與無機材料或者無機氧化物的質量比為100：0.01～100：90。

2.根據權利要求1所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的高分子聚合物與無機材料的質量比為100:30-100:70。

3.根據權利要求1所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的高分子聚合物為PI、PTFE、PP、PE、聚已戊二烯和環氧樹脂中的一種或者一種以上混合。

4.根據權利要求1所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的無機材料為Si、Al、Ti、石墨中的一種或者一種以上；無機氧化物為SiOx、ZnO、Al₂O₃、SiNyOx、TiO₂、ITO以及DLC等中一種或者一種以上。

5.根據權利要求1-4之一所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：包含如下步驟：(1)基材的準備；(2)將基材送入預濺射真空箱進行預濺射清洗，預濺射氣體為99.95％-99.99％氬氣，濺射功率加大速率為0.1-6W小時/平方厘米，濺射時間為30-500秒；(3)以高分子、無機材料復合靶為靶材，開啟射頻電源，在預濺射基體上進行沉積制備復合高阻膜，即得。

6.根據權利要求5所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的步驟(3)中經過預濺射的基材纏繞在滾筒表面固定，真空室的真空度控制在0.1-10×10^-5Pa，工作氣體為氬氣或者氬氧混合氣，氬氣純度為99.95％-99.99％，氣流量為10-450sccm，氧氣純度為99.95％-99.999％，氣流量為0.5-100sccm，工作氣壓控制為0.2-2Pa，靶基距為3-16cm，滾筒旋轉速度控制為0.5-10m/分，濺射功率控制為0.1-15W/平方厘米，濺射時間為5-300分鐘。

7.根據權利要求5所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的預濺射功率加大速率為0.5-2W小時/平方厘米，濺射時間為60-200秒。

8.根據權利要求5所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的基材單面或者雙面沉積柔性阻隔層。

9.根據權利要求6所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的經過預濺射的基材纏繞在滾筒表面固定，真空室的真空度控制在2-5×10^-5Pa，工作氣體為氬氣或者氬氧混合氣，氬氣純度為99.95％-99.99％，氣流量為40-150sccm，氧氣純度為99.95％-99.999％，氣流量為5-30sccm，工作氣壓控制為0.55-0.9Pa，靶基距為4-10cm，滾筒旋轉速度控制為1-3m/分，濺射功率控制為0.5-6W/平方厘米，濺射時間為15-90分鐘。

10.根據權利要求6所述的一種濺射耐折疊高阻隔復合薄膜的制備工藝，其特征在于：所述的復合靶材原料為聚合物與無機材料，工作氣體為氬氧混合氣，其中，氬氣流量與氧氣流量的比值為100:10-100:90；所述的復合靶材原料為聚合物與無機氧化物，則工作氣體為氬氣或者氬氧混合氣。