[發(fā)明專(zhuān)利]一種三維堆疊的閃存結(jié)構(gòu)及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810069437.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108538849B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金鎭湖;康太京 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東芯半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/11578 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/11578 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201700 上海市青浦區(qū)趙巷鎮(zhèn)滬青*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 三維 堆疊 閃存 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種三維堆疊的閃存結(jié)構(gòu),包括:基板;支撐板,形成于基板的上表面,由半導(dǎo)體材料制備形成;第一側(cè)面結(jié)構(gòu);第二側(cè)面結(jié)構(gòu);第一側(cè)面結(jié)構(gòu)包括上下堆疊的多個(gè)第一晶體管控制結(jié)構(gòu),且相鄰的第一晶體管控制結(jié)構(gòu)之間通過(guò)第一隔離層相隔離;第二側(cè)面結(jié)構(gòu)包括上下堆疊的多個(gè)第二晶體管控制結(jié)構(gòu),且相鄰的第二晶體管控制結(jié)構(gòu)之間通過(guò)第二隔離層相隔離;每個(gè)第一晶體管控制結(jié)構(gòu)與支撐板組成相連的多個(gè)第一晶體管;每個(gè)第二晶體管控制結(jié)構(gòu)與支撐板組成相連的多個(gè)第二晶體管;能夠形成三維堆疊的閃存結(jié)構(gòu),能夠使得晶體管列的布局面積最小化,同時(shí)充分?jǐn)U張晶體管的傳送通道的長(zhǎng)度,極大提高存儲(chǔ)性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種三維堆疊的閃存結(jié)構(gòu)及其制備方法。
背景技術(shù)
Nand閃存芯片是一種非揮發(fā)性存儲(chǔ)設(shè)備。如圖1所示,包含多個(gè)單元字符串,即晶體管列STG1~STGm所排列的字符串?dāng)?shù)組,即晶體管陣列STARR。每個(gè)晶體管列STG1~STGm由對(duì)應(yīng)的位線BL1~BLm與共同電源線CSL之間串聯(lián)的漏極選擇晶體管DST、多個(gè)單元晶體管MC1~MCn及源極選擇晶體管SST組成。此時(shí),漏極選擇晶體管DST,多個(gè)單元晶體管MC1~MCn及源極選擇晶體管SST分別被附上漏極XDS選擇信號(hào),對(duì)應(yīng)的字線WL1~WLn及源極XSS選擇信號(hào)形成傳送通道。并且為提高Nand閃存芯片的特性,與上述單元晶體管MC相似形態(tài)的虛擬晶體管也可以被部署到晶體管列STG1~STGm的適當(dāng)位置。
此時(shí),上述單元晶體管MC1~MCn是一種擁有被附上了為形成傳送通道信號(hào)的控制門(mén)CGT與捕捉傳送通道電荷的陷阱門(mén)TGT的晶體管。本說(shuō)明中被稱(chēng)為“捕捉型晶體管”。漏極選擇晶體管DST與源極選擇晶體管SST是只形成被附上了為形成傳送通道信號(hào)的控制門(mén)CGT,無(wú)陷阱門(mén)的晶體管,也可稱(chēng)為“傳送型晶體管”。
另一方面,隨著Nand閃存芯片不斷被整合,在平面上形成傳送通道的已有Nand閃存存儲(chǔ)設(shè)備的單元晶體管MC1~MCn通道長(zhǎng)度會(huì)變短。隨之,已有Nand閃存芯片會(huì)發(fā)生短溝道效應(yīng),硅基板的泄漏電流,柵誘導(dǎo)漏極泄漏電流,漏端引入的勢(shì)壘降低,程序干擾,損失的捕捉電荷比增大等現(xiàn)象。同時(shí)由于相鄰單元晶體管MC1~MCn之間的干擾,產(chǎn)生閾值電壓變化等問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明提出了一種三維堆疊的閃存結(jié)構(gòu),其中,包括:
基板,由半導(dǎo)體材料制備形成;
支撐板,形成于所述基板的上表面,由半導(dǎo)體材料制備形成;
第一側(cè)面結(jié)構(gòu),形成于所述支撐板的第一側(cè)且與所述支撐板等高;
第二側(cè)面結(jié)構(gòu),形成于所述支撐板背向所述第一側(cè)面結(jié)構(gòu)的第二側(cè),且與所述支撐板等高;
所述第一側(cè)面結(jié)構(gòu)包括上下堆疊的多個(gè)第一晶體管控制結(jié)構(gòu),且相鄰的所述第一晶體管控制結(jié)構(gòu)之間通過(guò)第一隔離層相隔離;
所述第二側(cè)面結(jié)構(gòu)包括上下堆疊的多個(gè)第二晶體管控制結(jié)構(gòu),且相鄰的所述第二晶體管控制結(jié)構(gòu)之間通過(guò)第二隔離層相隔離;
每個(gè)所述第一晶體管控制結(jié)構(gòu)與所述支撐板組成相連的多個(gè)第一晶體管;每個(gè)所述第二晶體管控制結(jié)構(gòu)與所述支撐板組成相連的多個(gè)第二晶體管。
上述的閃存結(jié)構(gòu),其中,所述第一晶體管控制結(jié)構(gòu)包括:
第一門(mén)外緣隔離層;
相隔離的第一控制門(mén)和第一陷阱門(mén),形成于所述第一門(mén)外緣隔離層中;
所述第一控制門(mén)用于接收外部的第一控制信號(hào),所述第一陷阱門(mén)用于在所述第一晶體管導(dǎo)通時(shí)俘獲電荷。
上述的閃存結(jié)構(gòu),其中,所述第一控制門(mén)與所述第一陷阱門(mén)通過(guò)所述第一門(mén)外緣隔離層中的一第二氧化層相隔離。
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H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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