[發明專利]一種暗觸媒納米復合材料及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201810067648.9
• 申請日: 2018-01-24
• 公開（公告）號: CN108246365B
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 路勇
• 申請（專利權）人: 上海易明建設工程發展有限公司
• 主分類號: B01J31/28
• 分類號: B01J31/28;B01J31/32;B01J37/00;B01J37/02;B01D53/86;B01D53/72
• 代理公司: 上海思牛達專利代理事務所(特殊普通合伙) 31355
• 代理人: 丁劍

1.一種暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：具體包括以下步驟，(1)無機氧化物納米顆粒、氧化劑、氣相二氧化硅和水性樹脂混合，并將其放置于研磨機中，進行高速研磨，制備得到暗觸媒納米復合材料；(2)將所制備得到的暗觸媒納米復合材料分散在水中，采用高速剪切機進行剪切分散，制備得到暗觸媒納米復合材料乳液；(3)將暗觸媒納米復核材料乳液采用刮涂或噴涂工藝施工于物體表面；

步驟(1)中，所述的無機氧化物納米顆粒，指的是Co₃O₄、Co₂O₃、LaCoO₃、LaMnO₃中的一種或兩種以上的混合物；所述的無機氧化物納米的顆粒，其顆粒尺寸為0.5納米至100納米；所述的氧化劑為二氧化氯粉劑、過硫酸鉀、過硫酸鈉、過硫酸胺中的一種或兩種以上的混合物；所述的水性樹脂是聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸、聚胺酯中的一種或兩種以上；所述水性樹脂的顆粒度為800目至4000目；所述氣相二氧化硅為比表面積為80平方米/克至800平方米/克；所述無機氧化物納米顆粒所占的質量比為0.01％～2％之間；所述氧化劑所占的質量比為10～60％之間；所述氣相二氧化硅所占的質量比為2～30％之間；所述水性樹脂所占的質量比為10～50％之間；步驟(2)中，所述暗觸媒納米復合材料乳液中，暗觸媒納米復合材料的濃度為0.5～25％之間。

2.如權利要求1所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的無機氧化物納米的顆粒尺寸為5納米至40納米。

3.如權利要求2所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的無機氧化物納米的顆粒尺寸為8納米至25納米。

4.如權利要求1所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的水性樹脂的顆粒度為1500目至3500目。

5.如權利要求4所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的水性樹脂的顆粒度為2000目至3000目。

6.如權利要求1所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的氣相二氧化硅為比表面積為150平方米/克至500平方米/克。

7.如權利要求6所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的氣相二氧化硅為比表面積為200平方米/克至400平方米/克。

8.如權利要求1所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的無機氧化物納米顆粒所占的質量比為0.05～1％之間。

9.如權利要求8所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的無機氧化物納米顆粒所占的質量比為0.1～0.6％之間。

10.如權利要求1所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的氧化劑所占的質量比為15～45％之間；所述的氣相二氧化硅所占的質量比為5～25％之間；所述的水性樹脂所占的質量比為15～35％之間；所述的暗觸媒納米復合材料乳液中，暗觸媒納米復合材料的濃度為1～15％之間。

11.如權利要求10所述的暗觸媒納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的氧化劑所占的質量比為20～30％之間；所述的氣相二氧化硅所占的質量比為8～18％之間；所述的水性樹脂所占的質量比為20～30％之間；所述的暗觸媒納米復合材料乳液中，暗觸媒納米復合材料的濃度為3～10％之間。