[發明專利]一種淬火介質溫度控制裝置

在審

• 申請號: 201810067122.0
• 申請日: 2018-01-23
• 公開（公告）號: CN108048629A
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 鄧鐵松;佟春梅
• 申請（專利權）人: 北京建通鴻翔科技有限公司
• 主分類號: C21D1/20
• 分類號: C21D1/20;C21D1/607;C21D11/00
• 代理公司: 北京細軟智谷知識產權代理有限責任公司 11471
• 代理人: 王金寶

1.一種淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：包括鹽浴槽(1)、鹽水槽(2)、冷凝器(3)、儲鹽罐(4)和引射管(5)，其中：

所述鹽水槽(2)內儲有通過熱處理后的水洗工藝將硝鹽淬火后金屬材料或者零件表面殘鹽清洗形成的鹽水，所述鹽浴槽(1)內儲有用于鹽浴淬火的高溫熔鹽；

所述引射管(5)一端設置在所述鹽浴槽(1)內，另一端與所述儲鹽罐(4)連通；所述引射管(5)能將所述鹽浴槽(1)內的高溫熔鹽引射入所述儲鹽罐(4)內；

所述鹽水槽(2)通過第一管路(6)與所述引射管(5)內腔連通，所述第一管路(6)能將所述鹽水槽(2)內的鹽水輸送到所述引射管(5)內腔中與高溫熔鹽混合；

所述儲鹽罐(4)上設置有排氣口和回流口，所述排氣口與所述冷凝器(3)高溫入口通過第二管路(7)連通，所述回流口與所述鹽浴槽(1)通過第三管路(8)連通；

所述冷凝器(3)的高溫出口與所述鹽水槽(2)通過第四管路(9)連通，所述冷凝器(3)的低溫入口和低溫出口分別與循環冷卻塔通過第五管路連通。

2.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述儲鹽罐(4)高于所述鹽浴槽(1)設置，所述回流口和所述排氣口分別設置在所述儲鹽罐(4)的底部和頂部，所述鹽浴槽(1)與所述鹽水槽(2)并排設置，所述冷凝器(3)設置在所述鹽水槽(2)上方。

3.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述引射管(5)、所述儲鹽罐(4)和所述第三管路(8)均采用耐熱不銹鋼材質制成。

4.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述引射管(5)下端插入到所述鹽浴槽(1)高溫硝鹽液面以下200-1000mm。

5.根據權利要求3所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述第三管路(8)插入到所述鹽浴槽(1)液面以下100-200mm。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：設置在所述鹽浴槽(1)內的所述引射管(5)的數量為多個，所述儲鹽罐(4)的數量與所述引射管(5)的數量相同，所有的所述引射管(5)與所有的所述儲鹽罐(4)一一對應設置，所有的所述儲鹽罐(4)均通過所述第二管路(7)與所述冷凝器(3)高溫入口連通。

7.根據權利要求6所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：每個所述引射管(5)上均設置有能調節介質流量的控制閥門。

8.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述鹽水槽(2)的數量為三個，三個所述鹽水槽(2)依次并排設置，相鄰的兩個所述鹽水槽(2)之間均通過管路連通，三個所述鹽水槽(2)分別為第一級鹽水槽、第二級鹽水槽和第三級鹽水槽，所述第一級鹽水槽與所述冷凝器(3)通過所述第四管路(9)連通，所述第三級鹽水槽與所述鹽浴槽(1)通過所述第一管路(6)連通。

9.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述鹽水槽(2)內設置有鹽水分離器。

10.根據權利要求1所述的淬火介質溫度控制裝置，其特征在于：所述冷凝器(3)的低溫出口與所述循環冷卻塔之間設置有換熱器。