[發(fā)明專(zhuān)利]真空吸附裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810065735.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108059076A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許根夫;成學(xué)平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市杰普特光電股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B66C1/02 | 分類(lèi)號(hào): | B66C1/02;F16B47/00 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 石佩 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市龍華新區(qū)觀瀾*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 吸附 裝置 | ||
1.一種真空吸附裝置,包括氣路通道,其特征在于,所述真空吸附裝置還包括層疊設(shè)置的第一基板及第二基板,所述第一基板遠(yuǎn)離所述第二基板的表面為第一表面,所述第二基板遠(yuǎn)離所述第一基板的表面為第二表面,所述氣路通道位于所述第一表面與所述第二表面之間,所述第一基板與所述第二基板中的至少一者為透明基板,以使得所述氣路通道可見(jiàn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置,其特征在于,還包括如下特征中的至少一個(gè):
所述第一基板為透明基板,所述第二基板為不透明基板,所述第一基板靠近所述第二基板的表面開(kāi)設(shè)有氣路凹槽,所述第二基板靠近所述第一基板的表面為平面,所述氣路通道由所述氣路凹槽的內(nèi)壁與所述第二基板靠近所述第一基板的表面配合形成;
所述真空吸附裝置還包括與所述氣路通道連通的吸嘴,所述吸嘴為塑料吸嘴;以及
所述透明基板為亞克力板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述真空吸附裝置還包括吸嘴以及壓塊,所述吸嘴及所述壓塊均設(shè)于所述第二基板的所述第二表面上,所述吸嘴的數(shù)目為多個(gè),多個(gè)所述吸嘴間隔排布圍合形成環(huán)形結(jié)構(gòu),所述壓塊位于多個(gè)所述吸嘴圍合形成環(huán)形結(jié)構(gòu)內(nèi),當(dāng)所述吸嘴吸附住待吸附物體時(shí),所述壓塊與所述待吸附物體緊貼。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述真空吸附裝置還包括螺紋固定柱及螺紋連接柱,所述第一基板上開(kāi)設(shè)有第一固定孔,所述第一固定孔與所述氣路通道相互獨(dú)立,所述第二基板上開(kāi)設(shè)有與所述第一固定孔正對(duì)的第二固定孔,所述第一基板與所述第二基板通過(guò)穿設(shè)于所述第一固定孔及所述第二固定孔上的所述螺紋固定柱密封貼合;
所述第一基板上開(kāi)設(shè)有第一連接孔,所述第一連接孔與所述氣路通道相互獨(dú)立,所述第二基板上開(kāi)設(shè)有與所述第一連接孔正對(duì)的第二連接孔,所述壓塊上開(kāi)設(shè)有與所述第二連接孔正對(duì)的第三連接孔,所述壓塊通過(guò)所述第一連接孔、所述第二連接孔以及所述第三連接孔上的所述螺紋連接柱固定于所述第二基板的所述第二表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述氣路通道包括相互獨(dú)立的第一氣路通道以及第二氣路通道,所述第一氣路通道包括多個(gè)第一支路,所述第二氣路通道包括多個(gè)第二支路,多個(gè)第一支路與多個(gè)所述第二支路間隔排布圍合形成環(huán)形結(jié)構(gòu),且相鄰兩個(gè)所述第一支路之間的所述第二支路的數(shù)目相同;
所述真空吸附裝置還包括吸嘴,每一所述第一支路與一所述吸嘴連通,每一所述第二支路與一所述吸嘴連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述第一氣路通道包括第一環(huán)形通路,多個(gè)所述第一支路分別與所述第一環(huán)形通路連通,所述第二氣路通道包括第二環(huán)形通路,多個(gè)所述第二支路分別與所述第二環(huán)形通路連通,其中,所述第二環(huán)形通路位于所述第一環(huán)形通路內(nèi),且所述第一支路與所述第二支路均位于所述第二環(huán)形通路與所述第一環(huán)形通路之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空吸附裝置,其特征在于,還包括如下特征中的至少一個(gè):
所述第二環(huán)形通路的數(shù)目為多個(gè),多個(gè)所述第二環(huán)形通路相互獨(dú)立;以及
所述第一基板上開(kāi)設(shè)有連通所述第一環(huán)形通路的第一抽氣口,所述第一基板上開(kāi)設(shè)有連通所述第二環(huán)形通路的第二抽氣口,所述第二抽氣口與所述第一抽氣口相互獨(dú)立,且所述第二抽氣口與所述第二環(huán)形通路的數(shù)目相同,所述第一抽氣口與所述第一環(huán)形通路的數(shù)目相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述真空吸附裝置還包括吸嘴及與所述吸嘴連接的單向閥,所述吸嘴與所述單向閥的數(shù)目相同,且一一對(duì)應(yīng),所述單向閥遠(yuǎn)離所述吸嘴的一端與所述氣路通道單向連通,以避免氣體通過(guò)漏氣的吸嘴進(jìn)入所述氣路通道。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述真空吸附裝置還包括用于與機(jī)械手連接的連接件,所述連接件的數(shù)目為一個(gè),所述連接件穿設(shè)于所述第一基板上,且與所述氣路通道相互獨(dú)立。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空吸附裝置,其特征在于,所述第一基板上還開(kāi)設(shè)有定位孔,在所述機(jī)械手上安裝所述真空吸附裝置時(shí),所述定位孔與所述機(jī)械手的定位柱配合。
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