[發(fā)明專利]顯示面板遮光層影像取得方法及其檢查設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810062030.3 | 申請日: | 2018-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN109960065A | 公開(公告)日: | 2019-07-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林志明;陳厚安;謝景揚 | 申請(專利權(quán))人: | 旭東機械工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 賈磊;郭曉宇 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 遮光層 攝影機 取像裝置 顯示面板 光源 影像 檢查設備 相對移動 影像取得 側(cè)邊 頂面 轉(zhuǎn)角 檢查裝置 涂布狀況 相對側(cè)面 影像檢查 拍攝 漏光 質(zhì)感 側(cè)面 鏡頭 電腦 | ||
1.一種顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,包括:
一載臺,用以承載待檢查的一顯示面板,該顯示面板至少有一側(cè)邊涂布有用以遮擋該顯示面板側(cè)邊漏光的遮光層,該遮光層具有一頂面、一上側(cè)面及一下側(cè)面,該頂面正對于該顯示面板的該側(cè)邊,該上、下側(cè)面位于該頂面的兩旁且相正對;及
一取像裝置,能與該顯示面板的該遮光層相對移動,其中,該取像裝置包括一第一攝影機與一第一光源,該第一攝影機的鏡頭朝向該遮光層的該頂面,并能在相對移動時從一側(cè)向?qū)υ撜诠鈱拥脑擁斆孢M行拍攝,用以取得該遮光層的影像,該第一光源為該第一攝影機提供照明。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,包括一電腦檢查裝置,該電腦檢查裝置用以接收該取像裝置所取得的影像,對所接收的影像進行影像分析,根據(jù)影像分析結(jié)果判斷該遮光層的涂布狀況,及提供判斷結(jié)果。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該第一光源的光軸與該第一攝影機的光軸相交,且該兩光軸之間的夾角為一銳角。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該兩光軸之間的夾角為10度至50度其中一者。
5.如權(quán)利要求3所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該兩光軸之間的夾角為30±2度。
6.如權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該第一攝影機的鏡頭傾斜地朝向該遮光層的該頂面。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該第一光源的出光端傾斜地朝向該遮光層的該頂面。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,包括上下相對的兩輔助光源,兩輔助光源的光軸均垂直于該第一攝影機的光軸,且交于該第一光源的光軸與該第一攝影機的光軸的相交點。
9.如權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該取像裝置包括一第二攝影機與一第二光源,該第二攝影機位于該第一攝影機的旁邊,且該第二攝影機的鏡頭朝向該側(cè)邊遮光層的該上側(cè)面,并能在相對移動時由上而下對該遮光層的該上側(cè)面進行拍攝,用以取得該遮光層的影像,該第二光源的出光端位于該第二攝影機的鏡頭的正下方,并為該第二攝影機提供照明。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該取像裝置包括一第三攝影機與一第三光源,該第三攝影機位于該第一、二攝影機之間,且該第三攝影機的鏡頭朝向該側(cè)邊遮光層的該下側(cè)面,并能在相對移動時由下而上對該遮光層的該下側(cè)面進行拍攝,用以取得該遮光層的影像,該第三光源的出光端位于該第三攝影機的鏡頭的正上方,并為該第三攝影機提供照明。
11.如權(quán)利要求9所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該第一攝影機的鏡頭傾斜地朝向該遮光層的該頂面,該第一光源的出光端傾斜地朝向該遮光層的該頂面。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,該第一攝影機的鏡頭傾斜地朝向該遮光層的該頂面,該第一光源的出光端傾斜地朝向該遮光層的該頂面。
13.如權(quán)利要求11所述的顯示面板遮光層檢查設備,其特征在于,包括上下相對的兩輔助光源,兩輔助光源的光軸均垂直于該第一攝影機的光軸,且交于該第一光源的光軸與該第一攝影機的光軸的相交點。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





