[發(fā)明專利]液晶顯示面板的配向方法及液晶顯示面板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810060937.6
• 申請(qǐng)日: 2018-01-22
• 公開（公告）號(hào): CN107991797B
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鐘德鎮(zhèn);廖家德;蘇子芳;余嘉洺;姜麗梅;房聳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山龍騰光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13;G02F1/1337
• 代理公司: 上海波拓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264
• 代理人: 蔡光仟

1.一種液晶顯示面板的配向方法，其特征在于，所述配向方法包括：

提供陣列基板(10)，所述陣列基板(10)上設(shè)置有呈陣列排布的多個(gè)子像素(SP)，每個(gè)子像素(SP)具有第一區(qū)域(111)和第二區(qū)域(112)；

在每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)和所述第二區(qū)域(112)同時(shí)制作第一配向膜(12)；

沿第一配向方向(A1)對(duì)所述第一配向膜(12)進(jìn)行摩擦并在所述第一配向膜(12)上形成第一溝槽(121)；保護(hù)所述第一區(qū)域(111)的所述第一配向膜(12)并暴露所述陣列基板(10)的所述第二區(qū)域(112)；

在每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)和所述第二區(qū)域(112)同時(shí)制作第二配向膜(15)；

沿第二配向方向(A2)對(duì)所述第二配向膜(15)進(jìn)行摩擦形成第二溝槽(151)并去除所述第一區(qū)域(111)上的所述第二配向膜(15)；露出所述第一區(qū)域(111)上的所述第一配向膜(12)；

通過摩擦形成的所述第一溝槽(121)與所述第二溝槽(151)互相垂直；

提供彩膜基板(20)，采用上述相同方法對(duì)所述彩膜基板(20)進(jìn)行配向，在彩膜基板(20)上對(duì)應(yīng)每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)得到第三配向方向(B1)，在所述彩膜基板(20)上對(duì)應(yīng)每個(gè)子像素(SP)的所述第二區(qū)域(112)得到第四配向方向(B2)；

其中，所述第一配向方向(A1)與所述第二配向方向(A2)相互垂直，所述第三配向方向(B1)與所述第四配向方向(B2)相互垂直，所述第一配向方向(A1)與所述第三配向方向(B1)相互平行或反向平行，所述第二配向方向(A2)與所述第四配向方向(B2)相互平行或反向平行。

2.如權(quán)利要求1所述的配向方法，其特征在于，沿第一配向方向(A1)對(duì)所述第一配向膜(12)進(jìn)行摩擦并在所述第一配向膜(12)上形成第一溝槽(121)；保護(hù)所述第一區(qū)域(111)的所述第一配向膜(12)并暴露所述陣列基板(10)的所述第二區(qū)域(112)，包括：

沿所述第一配向方向(A1)對(duì)所述第一配向膜(12)進(jìn)行摩擦以在所述第一配向膜(12)上形成所述第一溝槽(121)；

在設(shè)置有所述第一配向膜(12)的每個(gè)子像素(SP)上再制作一層金屬層(13)；

在制作有所述金屬層(13)的每個(gè)子像素(SP)上再涂布一光阻層(14a)，利用掩膜板遮蓋每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)，并對(duì)每個(gè)子像素(SP)的所述第二區(qū)域(112)進(jìn)行曝光；

對(duì)被曝光的所述光阻層(14a)進(jìn)行顯影，使得與每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)相對(duì)應(yīng)的所述光阻層(14a)被保留，與每個(gè)子像素(SP)的所述第二區(qū)域(112)相對(duì)應(yīng)的所述光阻層(14a)被去除，然后蝕刻掉所述第二區(qū)域(112)上的所述金屬層(13)，直至所述第二區(qū)域(112)上的所述第一配向膜(12)露出；

去除在每個(gè)子像素(SP)的所述第二區(qū)域(112)露出的所述第一配向膜(12)；

沿第二配向方向(A2)對(duì)所述第二配向膜(15)進(jìn)行摩擦形成第二溝槽(151)并去除所述第一區(qū)域(111)上的所述第二配向膜(15)；露出所述第一區(qū)域(111)上的所述第一配向膜(12)，包括：

去除每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)上的所述光阻層(14a)及所述第二配向膜(15)，使得所述第一區(qū)域(111)上的所述金屬層(13)露出；

沿所述第二配向方向(A2)對(duì)所述第二配向膜(15)進(jìn)行摩擦以在所述第二配向膜(15)上形成所述第二溝槽(151)；

對(duì)每個(gè)子像素(SP)的所述第一區(qū)域(111)上的所述金屬層(13)進(jìn)行蝕刻以去除所述金屬層(13)，直至所述第一區(qū)域(111)上的所述第一配向膜(12)露出。