[發(fā)明專利]彩色濾光片基板的制作方法及彩色濾光片基板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810060013.6
• 申請(qǐng)日: 2018-01-22
• 公開（公告）號(hào): CN108227283A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張瑞軍;王松;范志翔;孟小龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂;王中華

1.一種彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1、提供一基板(1)，所述基板(1)包括陣列排布的多個(gè)像素區(qū)(11)及位于各個(gè)相鄰的像素區(qū)(11)之間的非像素區(qū)(12)；

步驟S2、在所述基板(1)上形成一層透明的光阻薄膜(2’)；

步驟S3、對(duì)位于所述非像素區(qū)(12)內(nèi)的光阻薄膜(2’)進(jìn)行碳化處理，得到光阻層(2)，所述光阻層(2)包括：位于所述各個(gè)像素區(qū)(11)內(nèi)的透明部(21)以及位于各個(gè)非像素區(qū)(12)內(nèi)的遮光部(22)；

步驟S4、在所述光阻層(2)上形成彩色濾光層(3)。

2.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，所述彩色濾光層(3)包括：多個(gè)濾光單元(31)，每一個(gè)濾光單元(31)對(duì)應(yīng)一個(gè)像素區(qū)(11)。

3.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，所述步驟S3中利用一掩膜板(100)對(duì)所述非像素區(qū)(12)內(nèi)的光阻薄膜(2’)進(jìn)行激光照射，使得所述非像素區(qū)(12)內(nèi)的光阻薄膜(2’)碳化。

4.如權(quán)利要求3所述的彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，所述激光照射的照度為10³～10⁵mw/cm²，照射時(shí)間為5～30秒。

5.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，還包括步驟S5、在所述彩色濾光層(3)上形成透明電極層(4)。

6.如權(quán)利要求5所述的彩色濾光片基板的制作方法，其特征在于，還包括步驟S6、在所述透明電極層(4)上形成間隙物(5)。

7.一種彩色濾光片基板，其特征在于，包括：基板(1)、位于所述基板(1)上的光阻層(2)以及位于所述光阻層(2)上的彩色濾光層(3)；

所述基板(1)包括：陣列排布的多個(gè)像素區(qū)(11)及位于各個(gè)相鄰的像素區(qū)(11)之間的非像素區(qū)(12)，所述光阻層(2)包括：位于所述各個(gè)像素區(qū)(11)內(nèi)的透明部(21)以及位于各個(gè)非像素區(qū)(12)內(nèi)的遮光部(22)。

8.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板，其特征在于，所述遮光部(22)由與所述透明部(21)相同的材料經(jīng)過碳化處理形成。

9.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板，其特征在于，所述彩色濾光層(3)包括：多個(gè)濾光單元(31)，每一個(gè)濾光單元(31)對(duì)應(yīng)一個(gè)像素區(qū)(11)。

10.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片基板，其特征在于，還包括位于所述彩色濾光層(3)上的透明電極層(4)及位于所述透明電極層(4)上的間隙物(5)。